立位における頭部位置が足圧に及ぼす影響に関する研究
側面から安静立位の被験者を観察すると、通常、脚部は上方かつ前方に約5度の角度で配向しているのが見られる。膝は数度屈曲している可能性があり、肩は大転子の後方に位置し、頭部は前方に保持されている。 頭部の前方位置は重心を前方に移動させ、それにより前足部の下の圧力を増加させる可能性がある。 逆に、頭部を後方に移動させることは踵の下の圧力の増加を伴い、それにより前足部の下の圧力が減少するはずである。
本研究の目的は、頭部と背中の配列（すなわち後方頭位）および頭部回旋が足圧分布（足圧プラットフォームを用いて測定）に及ぼす影響を調査することである。
調査の概要
研究の種類
入学 (実際)
段階
- 適用できない
参加基準
適格基準
就学可能な年齢
健康ボランティアの受け入れ
説明
包含基準:
- 年齢が18歳から30歳まで
- 社会保険の適用があること
- 研究の目的、手順、リスクを理解し、文書によるインフォームド・コンセントを提供できる能力
除外基準:
- 脊椎の感染症またはがん性疾患の既往または併存
- 脊椎骨接合術
- 急性の頸部痛または腕の痛み
- 過去12ヶ月以内の四肢外傷
- 急性の脚の痛み
- 脚の神経障害性疾患またはその後遺症
- 重症筋無力症
- 中枢神経系障害
- 内耳の問題
- 法定後見下にある被験者
- 既知の妊娠
- 薬物または医療機器に関する別の生物医学研究への同時参加
研究計画
研究はどのように設計されていますか？
デザインの詳細
- 主な目的：他の
- 割り当て：なし
- 介入モデル：単一グループの割り当て
- マスキング：なし（オープンラベル）
武器と介入
参加者グループ / アーム |
介入・治療 |
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他の：足圧測定
被験者はプラットフォーム上に立ち、かかとと臀部が垂直面に触れ、頭は自由に保たれます。 その後、被験者は頭を後方に動かして垂直面に触れるようにします。 次に、頭を右に向け、その後左に向けます。 これらの各姿勢は2分間維持されます。 プラットフォームのセンサーは、さまざまな測定中に足の前後方向の圧力分布を測定します。 |
足圧測定の説明： 被験者はプラットフォーム上に立ち、かかとと臀部が垂直面に接触し、頭部は自由に保持されます。 その後、被験者は頭部を後方に動かして垂直面に接触させます。 次に、頭部を右に向け、その後左に向けます。 これらの各姿勢は2分間維持されます。 プラットフォームのセンサーは、各種取得中の前後足圧分布を測定します。 |
この研究は何を測定していますか？
主要な結果の測定
結果測定 |
時間枠 |
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足圧（g/cm²）および前後圧力分布（足圧プラットフォームを用いて測定）。
時間枠：1時間
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1時間
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協力者と研究者
捜査官
- 主任研究者：Mutter Catherine, MD、Les Hopitaux Universitaires de Strasbourg
出版物と役立つリンク
研究記録日
主要日程の研究
研究開始
一次修了 (実際)
研究の完了 (実際)
試験登録日
最初に提出
QC基準を満たした最初の提出物
最初の投稿 (推定)
学習記録の更新
投稿された最後の更新 (実際)
QC基準を満たした最後の更新が送信されました
最終確認日
詳しくは
本研究に関する用語
その他の研究ID番号
- 5899
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