共鳴周波数解析を使用した、ハイブリッド表面と再吸収性ブラスト媒体 (RBM) 表面の一次インプラントと二次インプラントの安定性の比較 (IMPLANTSTABIL)

この研究については病院の倫理委員会の承認が得られます。 プロトコールとして、CMH ラホール医科大学歯学部に来院するすべての患者は一般的な OPD 検査を受け、包含基準と除外基準を満たす患者は補綴歯科部門に紹介されます。 病歴後、口頭検査とインフォームドコンセントを完了します。 患者様は抽選により2つのグループに分けられます。グループ 1 には、ハイブリッド (サンドブラスト、酸エッチングされたインプラント) が配置されます。 グループ 2 では、吸収性ブラストメディア (RBM) インプラント表面が配置されます。 ランダム化研究に基づいて、患者は、インプラントの初期荷重時に共振周波数分析装置を使用してインプラントの一次安定性を測定する研究のために選択されます。最初は、挿入トルク 30 Ncm によるインプラント埋入直後の評価から始まり、次に二次安定性です。 Ostell Mentor を使用した術後 12 週間の安定性。 この器具は、固定長の標準化されたアバットメント (スマートペグ) を各インプラントに挿入することにより、各インプラントに取り付けられます。 トランスデューサー プローブ (Osstell メンター プローブ) は、プローブの先端が頬側と舌側の両方の方向で 2 ～ 3 mm の距離にあるスマートペグ上部の小さな磁石に向けられるように保持されます。これらの測定値の平均は次のようになります。その後計算されます。 プローブは、機器がビープ音を鳴らして ISQ 値が表示されるまで、パルス時間中静止したままになります。 ISQ1 は、一次安定性となる初期インプラント負荷中に直ちに評価され、ISQ2 は、インプラントが適切にオッセオインテグレーションされたインプラント埋入から 12 週間後に評価されます。これは、インプラントの二次安定性となります。

インプラントフィクスチャーは、ハイブリッドインプラントの場合は DIO UF II、RBM インプラントの場合は Osstem TSII plus システムになります。 データは、効果修飾因子に対処するために、年齢、性別、インプラント部位ごとに階層化されます。