重度の外傷性脳損傷における頭蓋内圧モニタリング シングルセンターの経験

ICP > 15 mmHg は上昇していると考えられており、これは不可逆的な脳損傷や死亡につながる二次損傷の重要な原因と考えられています。 ICP モニタリングは、さまざまな状況で使用されます。外傷性脳損傷、脳内出血、くも膜下出血、水頭症、悪性梗塞、脳浮腫、中枢神経系感染症、肝性脳症など、これらすべての症状において、他のパラメーターに照らして ICP モニタリングを行うことで、より良い結果を得るために管理に影響を与えることができます。

頭蓋内圧を監視するには、次の 4 つの方法があります。

1. 実質内法では、穿頭孔を通してカテーテルを脳実質内に配置します。合併症率、感染率が低く、カテーテルの閉塞や漏れの可能性がありません。 プローブの直径が小さいため、神経損傷が最小限に抑えられます。 さらに、トランスデューサの位置ずれによる測定誤差への影響が少なくなります。
2. 脳室内法では、カテーテルを脳室の 1 つ (lat. 心室）。 カテーテルは、治療用 CSF ドレナージや薬剤の投与にも使用できます。
3. 硬膜下法、この方法は、モニタリングをすぐに行う必要がある場合に使用されます。 中空のネジを穿頭孔から挿入し、硬膜を通して配置します。
4. 頭蓋骨と硬膜組織の間に硬膜外センサーを挿入します。 この手順は、他の方法よりも侵襲性が低くなります。

ICP モニタリング方法には、多くの合併症が伴います。 これらには、感染、出血、閉塞、留置の困難、位置異常などのリスクが含まれます。

ICP モニターの使用は、ICP モニターなしで治療を受けた患者と比較して、死亡率が有意に低いことに関連しています。