Studio per confrontare la perdita ossea marginale intorno agli impianti di due sistemi di impianti dentali.
Uno studio aperto e randomizzato per confrontare due sistemi di impianti dentali per quanto riguarda i cambiamenti nel livello dell'osso marginale.
Panoramica dello studio
Stato
Stato
Condizioni
Condizioni
Intervento / Trattamento
Intervento / Trattamento
Tipo di studio
Tipo di studio
Iscrizione (Effettivo)
Iscrizione
Fase
Fase
- Non applicabile
Contatti e Sedi
Luoghi di studio
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New York
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New York, New York, Stati Uniti, 10010
- Dept. of Implant Dentistry, New York University
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North Carolina
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Chapel Hill, North Carolina, Stati Uniti, 27599-7450
- Dept. of Prosthodontics, School of Dentistry, University of North Carolina
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Criteri di partecipazione
Criteri di ammissibilità
Criteri di ammissibilità
Età idonea allo studio
Accetta volontari sani
Sessi ammissibili allo studio
Descrizione
Criterio di inclusione:
- Fornitura di consenso informato scritto
- Età 18 - 75 anni
- Edentulismo parziale, classe Kennedy I o II, l'ultimo dente naturale deve essere canino o primo premolare
- Edentulia nell'area/i in caso di posizionamento dell'impianto per più di 2 mesi
Criteri di esclusione:
- Carie non trattata e/o malattia parodontale della dentatura residua
- Necessità di aumento pre-chirurgico dell'osso o dei tessuti molli nell'area o nelle aree implantari pianificate.
- Assenza di stabilità occlusale in occlusione centrica
- Qualsiasi malattia o condizione sistemica o locale che possa compromettere la guarigione post-operatoria e/o l'osteointegrazione
- Corticosteroidi sistemici o qualsiasi altro farmaco che possa compromettere la guarigione post-operatoria e/o l'osteointegrazione
- Gravidanza
- Presente abuso di alcol o droghe
- Fumo di tabacco negli ultimi 6 mesi
- Incapace o non disposto a tornare per le visite di follow-up per un periodo di 3 anni
Piano di studio
Come è strutturato lo studio?
Dettagli di progettazione
- Scopo principale: TRATTAMENTO
- Assegnazione: RANDOMIZZATO
- Modello interventistico: PARALLELO
- Mascheramento: NESSUNO
Numero di armi
Armi e interventi
Gruppo di partecipanti / ArmGruppo di partecipanti / Arm |
Intervento / TrattamentoIntervento / Trattamento |
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SPERIMENTALE: Sistema implantare ASTRA TECH; Apparecchio ST
Ø 4,5 cm nelle lunghezze 9-13 mm
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SPERIMENTALE: Biomet 3i; Impianti Osseotite®
Ø 4,0 cm in lunghezze 8,5-13 mm
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Cosa sta misurando lo studio?
Misure di risultato primarie
Misure di risultato primarie
Misura del risultato |
Misura Descrizione |
Lasso di tempo |
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Cambiamenti del livello osseo marginale
Lasso di tempo: 3 anni dopo il posizionamento dell'impianto (basale)
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L'adattamento dell'osso marginale è stato espresso come la distanza dal punto di riferimento dell'impianto al contatto osso-impianto più coronale sul lato mesiale e distale dell'impianto.
L'adattamento osseo in millimetri alla visita di follow-up a 3 anni è stato confrontato con i valori ottenuti al momento del posizionamento dell'impianto (linea di base).
Il valore positivo indica il guadagno osseo e il valore negativo la perdita ossea.
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3 anni dopo il posizionamento dell'impianto (basale)
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Collaboratori e investigatori
Sponsor
Sponsor
Investigatori
Investigatori
- Investigatore principale: Dennis P Tarnow, D.D.S. Prof., Dept. of Implant Dentistry, New York University (to March 2011)
- Investigatore principale: Stuart Froum, Dr, Dept. of Implant Dentistry, New York University (from March 2011)
Studiare le date dei record
Studia le date principali
Inizio studio
Inizio studio
Completamento primario (EFFETTIVO)
Completamento primario
Completamento dello studio (EFFETTIVO)
Completamento dello studio
Date di iscrizione allo studio
Primo inviato
Primo inviato
Primo inviato che soddisfa i criteri di controllo qualità
Primo inviato che soddisfa i criteri di controllo qualità
Primo Inserito (STIMA)
Primo Inserito
Aggiornamenti dei record di studio
Ultimo aggiornamento pubblicato (STIMA)
Ultimo aggiornamento pubblicato
Ultimo aggiornamento inviato che soddisfa i criteri QC
Ultimo aggiornamento inviato che soddisfa i criteri QC
Ultimo verificato
Ultimo verificato
Maggiori informazioni
Termini relativi a questo studio
Termini MeSH pertinenti aggiuntivi
Altri numeri di identificazione dello studio
Altri numeri di identificazione dello studio
- YA-MIC-0003
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