Stimolazione elettrica ed espressione di VEGF e NO nell'ulcera del piede diabetico
L'effetto della corrente continua a bassa intensità sull'espressione del fattore di crescita endoteliale vascolare e dell'ossido nitrico nelle ulcere del piede diabetico
Panoramica dello studio
Stato
Stato
Condizioni
Condizioni
Intervento / Trattamento
Intervento / Trattamento
Descrizione dettagliata
Tipo di studio
Tipo di studio
Iscrizione (Effettivo)
Iscrizione
Fase
Fase
- Non applicabile
Contatti e Sedi
Luoghi di studio
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-
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Tehran, Iran (Repubblica Islamica del
- Physical Therapy Department, Faculty of Medical Sciences
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Criteri di partecipazione
Criteri di ammissibilità
Criteri di ammissibilità
Età idonea allo studio
Accetta volontari sani
Sessi ammissibili allo studio
Descrizione
Criterio di inclusione:
- Classificazione Wagner DFU 2;
- età 40-60 anni;
- neuropatia diabetica da lieve a moderata;
- ABI > 0,7
- superficie della ferita > 1,5 cm2
Criteri di esclusione:
- frattura in un arto inferiore,
- una grave infezione,
- una malignità,
- insufficienza renale,
- malattie della pelle,
- osteomielite,
- gravidanza,
Piano di studio
Come è strutturato lo studio?
Dettagli di progettazione
- Scopo principale: Trattamento
- Assegnazione: Randomizzato
- Modello interventistico: Assegnazione parallela
- Mascheramento: Separare
Numero di armi
Armi e interventi
Gruppo di partecipanti / ArmGruppo di partecipanti / Arm |
Intervento / TrattamentoIntervento / Trattamento |
|---|---|
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Comparatore attivo: stimolazione elettrica
gruppo di stimolazione elettrica, gruppo che ha ricevuto ES in corrente continua all'intensità della soglia sensoriale per 1 ora/giorno, 3 giorni/settimana, per 4 settimane (12 sessioni)
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Corrente continua ES
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Comparatore placebo: placebo
Nel gruppo placebo, la procedura di trattamento era la stessa del gruppo ES, ma l'intensità della corrente era zero.
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la procedura di intervento era la stessa del gruppo ES, ma l'intensità di corrente era nulla
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Cosa sta misurando lo studio?
Misure di risultato primarie
Misure di risultato primarie
Misura del risultato |
Lasso di tempo |
|---|---|
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Il livello plasmatico di VEGF (pg/ml) e NO (microM)
Lasso di tempo: prima della 1a sessione di stimolazione elettrica (giorno 1) e 1 ora dopo, e prima della 12a sessione di stimolazione elettrica (giorno 26) e 1 ora dopo
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prima della 1a sessione di stimolazione elettrica (giorno 1) e 1 ora dopo, e prima della 12a sessione di stimolazione elettrica (giorno 26) e 1 ora dopo
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Misure di risultato secondarie
Misure di risultato secondarie
Misura del risultato |
Lasso di tempo |
|---|---|
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temperatura cutanea (gradi centigradi)
Lasso di tempo: prima della prima sessione di stimolazione elettrica (giorno 1) e 1 ora dopo
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prima della prima sessione di stimolazione elettrica (giorno 1) e 1 ora dopo
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temperatura cutanea (gradi centigradi)
Lasso di tempo: prima della sesta sessione di stimolazione elettrica (giorno 12) e 1 ora dopo
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prima della sesta sessione di stimolazione elettrica (giorno 12) e 1 ora dopo
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temperatura cutanea (gradi centigradi)
Lasso di tempo: prima della 12a sessione di stimolazione elettrica (giorno 26) e 1 ora dopo
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prima della 12a sessione di stimolazione elettrica (giorno 26) e 1 ora dopo
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Superficie della ferita (cm2)
Lasso di tempo: il giorno 1, 12 e 26
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il giorno 1, 12 e 26
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Collaboratori e investigatori
Sponsor
Sponsor
Studiare le date dei record
Studia le date principali
Inizio studio
Inizio studio
Completamento primario (Effettivo)
Completamento primario
Completamento dello studio (Effettivo)
Completamento dello studio
Date di iscrizione allo studio
Primo inviato
Primo inviato
Primo inviato che soddisfa i criteri di controllo qualità
Primo inviato che soddisfa i criteri di controllo qualità
Primo Inserito (Stima)
Primo Inserito
Aggiornamenti dei record di studio
Ultimo aggiornamento pubblicato (Stima)
Ultimo aggiornamento pubblicato
Ultimo aggiornamento inviato che soddisfa i criteri QC
Ultimo aggiornamento inviato che soddisfa i criteri QC
Ultimo verificato
Ultimo verificato
Maggiori informazioni
Termini relativi a questo studio
Termini MeSH pertinenti aggiuntivi
Altri numeri di identificazione dello studio
Altri numeri di identificazione dello studio
- د 50/259
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