RCM および OCT 共焦点顕微鏡法と光コヒーレンストモグラフィーによる毛包脂腺単位およびにきび病変のイメージング

包含基準:

全教科

1. 健康な男女
2. ベースラインで18～45歳
3. 法的能力があり、口頭および書面による同意を与えることができる
4. デンマーク語で口頭および書面でコミュニケーションをとる
5. 妊娠検査陰性の女性
6. -被験者は一般的に健康で、参加する意思があり、インフォームドコンセントを与えることができ、プロトコル要件を順守できます。
7. フィッツパトリック皮膚フォトタイプ I-III

ニキビ肌

1. -尋常性座瘡の以前または以前の臨床診断を受けた被験者、IGAスコア1〜4
2. -頬、額、および/またはあごに1〜75の炎症性顔面病変があり、結節嚢胞性病変が2つ以下の被験者（付録II、表4を参照）
3. にきびを有する含まれる各患者は、5つのにきび病変のうち少なくとも3つを表す必要があります
4. -一般的な健康状態が良好で、参加する意思があり、インフォームドコンセントを提供でき、プロトコル要件を順守できる被験者

除外基準:

1. 妊娠中および授乳中の女性
2. -金に対する既知のアレルギーのある被験者、または微粒子懸濁液中の他の成分
3. 研究対象の皮膚疾患または皮膚病変のある個人は除外されます
4. -研究の評価を妨害または混乱させる可能性のある治療領域に入れ墨のある被験者
5. -差し迫った瘢痕化の可能性がある重度のにきび（IGA 5）の被験者、研究者の意見
6. -研究者の意見で臨床的に関連すると見なされるケロイドの病歴を持つ被験者
7. -コングロバタ座瘡、劇症座瘡、二次性座瘡（塩素座瘡、薬剤性座瘡など）、または研究期間中の全身治療の継続を必要とする非常に重度の座瘡のある被験者。
8. -活動的な皮膚疾患または過度の瘢痕のある被験者 研究者の意見では、金微粒子を投与する能力またはその領域でのOCT / RCMの使用に影響を与えます
9. -ベースライン前の3か月以内にイソトレチオインなどの経口レチオノイド療法を使用した被験者。
10. -ベースラインから2週間以内に局所レチノイド、局所コルチコステロイド、局所抗生物質または併用療法を使用した被験者
11. -ベースラインから1週間以内に、アゼライン酸、過酸化ベンゾイル、および/またはサリチル酸を含む市販の局所製品を使用した被験者
12. -インテンスパルスライトまたは他のレーザー、マイクロダーマブレーションまたはケミカルピーリングを含む光治療をベースラインから3週間以内に治療領域に使用した被験者。
13. -治験薬を受け取った、またはベースライン前の30日以内に治験機器で治療された被験者。