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ルトロニック システムへの曝露後の組織の組織学的評価

2019年12月18日 更新者:LUTRONIC Corporation
最大 25 科目の登録。登録された被験者は、テストスポットへの暴露訪問を受ける被験者よりも多い可能性があります。 テストスポット暴露前の前治療薬はありません。 テスト スポット露出の直前または直後に腹部の両側に最大 6 つのタトゥー ポイントを適用して、切除されたパンニスの露出スポットをマッピングおよび特定します。 切除する領域の入れ墨は、テスト スポット露出領域の輪郭を描くために配置されます。 露出した場所の写真は調査員の裁量で撮影することができます。

調査の概要

詳細な説明

資格のある登録被験者は、スクリーニング予約の時間とスケジュールされた腹部形成術に応じて、4 つのグループのいずれかに割り当てられます。 テストスポットの露出は、次の可能な時点で腹部形成術の切除前に行われます(グループごと):

  • グループ A (最大 n=5): 組織切除の 1 ~ 3 時間前に Genius に曝露
  • グループ B (最大 n = 5): 組織切除の 30 + 7 日、14 + 3 日、および 7 + 3 日前に Genius に曝露。 すべてのテスト スポット露出訪問は、テスト スポット露出訪問の 7 + 3 日後にフォローアップ訪問を行います。
  • グループ C (最大 n = 5): 組織切除の 90 + 14 日、60 + 10 日、および 30 + 7 日前に Genius に曝露。 すべてのテスト スポット露出訪問は、テスト スポット露出訪問の 7 + 3 日後にフォローアップ訪問を行います。
  • グループ D (最大 n = 10): Genius、LaseMD、LaseMD FLEX、eCO2 および/または PicoPlus 曝露 14 + 3 日、7 + 3 日、および組織切除の 1 ~ 3 時間前。 すべてのテスト スポット露出訪問は、テスト スポット露出訪問の 7 + 3 日後にフォローアップ訪問を行います。

被験体は、腹部形成術で切除される腹部の部位にテスト スポットを照射されます。 テスト スポットの面積は約 2 x 2 cm2 ですが、切除された組織領域内に収まるように適切に調整することができます。 曝露中の被験者の痛みは、0~10の数値評価尺度を使用して監視および記録されます。

腹部形成術の手順に関連する活動は、この研究の範囲外と見なされ、この研究中に記録または報告されません。 被験者は、切除された組織の組織調製を除いて、研究に関連するすべての手順が完了した後、腹部形成術の前に研究から退出する。 切除された組織の組織調製は、被験者が研究から退出した後に完了する。

研究の種類

介入

入学 (実際)

3

段階

  • 適用できない

連絡先と場所

このセクションには、調査を実施する担当者の連絡先の詳細と、この調査が実施されている場所に関する情報が記載されています。

研究場所

    • Massachusetts
      • Billerica、Massachusetts、アメリカ、01821
        • William LoVerme, MD

参加基準

研究者は、適格基準と呼ばれる特定の説明に適合する人を探します。これらの基準のいくつかの例は、人の一般的な健康状態または以前の治療です。

適格基準

就学可能な年齢

18年歳以上 (大人、高齢者)

健康ボランティアの受け入れ

はい

受講資格のある性別

全て

説明

包含基準:

  1. 18歳以上の男女問わず。
  2. 被験者は健康です。
  3. フィッツパトリック スキン タイプ I ~ VI。プロトコル番号: L18006 v5.0 11192018 ページ 8/52
  4. 腹部形成術の計画とスケジュール。
  5. 腹部形成術まで、Genius テスト スポットを治療/露出する領域で他の処置を受けないという義務を理解し、受け入れます。
  6. -フォローアップ訪問のために戻ったり、研究期間中の除外手順を控えたりするなど、プロトコル要件を順守する意欲と能力。
  7. 出産の可能性のある被験者は、尿妊娠検査の結果が陰性でなければならず、スクリーニング来院時に授乳中でなく、容認できる避妊法(例: 殺精子剤を使用したバリア法、ホルモン法、IUD、外科的滅菌、禁欲)研究中。 以下の条件のいずれかが病歴に記載されている場合、女性は出産の可能性があるとは見なされません。

    1. -研究前の少なくとも12か月の閉経後;
    2. 子宮および/または両方の卵巣がない;また
    3. -研究登録の少なくとも6か月前の両側卵管結紮。
  8. 治験責任医師が容認できない身体的または心理的状態がないこと。
  9. 研究関連の手順を実行する前に、書面によるインフォームドコンセントとHIPAA承認を提供する意欲と能力。

除外基準:

  1. AIDS や HIV などの免疫抑制性疾患、または免疫抑制剤、放射線療法、化学療法の使用により、創傷治癒が損なわれたり、免疫系の障害などの感染リスクが高まる可能性がある、管理が不十分な病状。
  2. 金に対する過敏症またはアレルギーのある方。
  3. -試験期間中に妊娠中、授乳中、または妊娠が予想される被験者。
  4. -現在の皮膚がんまたは前悪性のほくろを含む他の悪性疾患のある被験者。
  5. 血管疾患の病歴。
  6. 出血性疾患の病歴。
  7. -皮膚障害、ケロイド瘢痕、および/または異常な創傷治癒の病歴。
  8. ただれ、乾癬、湿疹、発疹、重度の活動性炎症性座瘡、単純ヘルペスの発生など、暴露部位に活発な皮膚状態または感染症がある。
  9. 暴露部位の開いた傷または損傷。
  10. 医療機器が埋め込まれている被験者: 露出領域内のペースメーカー、心臓除細動器、表面金属、および露出領域内の他の埋め込み型デバイスまたは合成フィラー。
  11. -光による発作障害の病歴(グループD)。
  12. -白斑、湿疹、または乾癬の病歴(グループD)。
  13. 色素障害の病歴、特に色素沈着過剰または低色素沈着の傾向 (グループ D)。
  14. テストスポット暴露の領域における過度または最近の著しい日焼け(グループD)。
  15. -プロトコルを理解できない、またはインフォームドコンセントを提供できない。
  16. -慢性的な薬物またはアルコール乱用の病歴。
  17. -治験機器または薬物の使用を伴う研究への同時登録。
  18. -過去6か月以内の露出領域での外科的または美容的治療の履歴。
  19. 以下の薬の使用歴または現在の使用:

    1. 毎日の抗凝固剤、アスピリン、鉄サプリメント、ハーブサプリメント、またはイチョウ、高麗人参、ニンニクなどの軟膏;
    2. 過去 1 週間以内の暴露部位の局所レチノイド;およびプロトコル番号: L18006 v5.0 11192018 ページ 9/52
    3. -研究者の意見では、被験者がプロトコル要件を理解すること、またはインフォームドコンセントを理解して署名することを妨げる精神薬。

      -

研究計画

このセクションでは、研究がどのように設計され、研究が何を測定しているかなど、研究計画の詳細を提供します。

研究はどのように設計されていますか?

デザインの詳細

  • 主な目的:処理
  • 割り当て:非ランダム化
  • 介入モデル:単一グループの割り当て
  • マスキング:なし(オープンラベル)

武器と介入

参加者グループ / アーム
介入・治療
実験的:グループA
グループ A (最大 n=5): 組織切除の 1 ~ 3 時間前に Genius に曝露

Infini Radiofrequency System (K121481) は述語デバイスです。 これは、電気凝固および止血のための皮膚科および一般的な外科的処置、ならびに顔面のしわの経皮的治療での使用が示されているバイポーラマイクロニードル電極システムを採用する低侵襲高周波デバイスです。

Genius システムは、Infini デバイスと実質的に同等であり、針挿入のためのデジタル制御の直接駆動機構と、針挿入を容易にする改良された針設計を備えています。 Genius システムのアクティブ チップは、Infini デバイスと実質的に同等です。 Genius システムのハンドピースも再設計され、より軽量で人間工学に基づいたものになりました。

実験的:グループB
グループ B (最大 n = 5): 組織切除の 30 + 7 日、14 + 3 日、および 7 + 3 日前に Genius に曝露。 すべてのテスト スポット露出訪問は、テスト スポット露出訪問の 7 + 3 日後にフォローアップ訪問を行います。

Infini Radiofrequency System (K121481) は述語デバイスです。 これは、電気凝固および止血のための皮膚科および一般的な外科的処置、ならびに顔面のしわの経皮的治療での使用が示されているバイポーラマイクロニードル電極システムを採用する低侵襲高周波デバイスです。

Genius システムは、Infini デバイスと実質的に同等であり、針挿入のためのデジタル制御の直接駆動機構と、針挿入を容易にする改良された針設計を備えています。 Genius システムのアクティブ チップは、Infini デバイスと実質的に同等です。 Genius システムのハンドピースも再設計され、より軽量で人間工学に基づいたものになりました。

実験的:グループC
グループ C (最大 n = 5): 組織切除の 90 + 14 日、60 + 10 日、および 30 + 7 日前に Genius に曝露。 すべてのテスト スポット露出訪問は、テスト スポット露出訪問の 7 + 3 日後にフォローアップ訪問を行います。

Infini Radiofrequency System (K121481) は述語デバイスです。 これは、電気凝固および止血のための皮膚科および一般的な外科的処置、ならびに顔面のしわの経皮的治療での使用が示されているバイポーラマイクロニードル電極システムを採用する低侵襲高周波デバイスです。

Genius システムは、Infini デバイスと実質的に同等であり、針挿入のためのデジタル制御の直接駆動機構と、針挿入を容易にする改良された針設計を備えています。 Genius システムのアクティブ チップは、Infini デバイスと実質的に同等です。 Genius システムのハンドピースも再設計され、より軽量で人間工学に基づいたものになりました。

実験的:グループD
グループ D (最大 n = 10): Genius、LaseMD、LaseMD FLEX、eCO2 および/または PicoPlus 曝露 14 + 3 日、7 + 3 日、および組織切除の 1 ~ 3 時間前。 すべてのテスト スポット露出訪問は、テスト スポット露出訪問の 7 + 3 日後にフォローアップ訪問を行います。

Infini Radiofrequency System (K121481) は述語デバイスです。 これは、電気凝固および止血のための皮膚科および一般的な外科的処置、ならびに顔面のしわの経皮的治療での使用が示されているバイポーラマイクロニードル電極システムを採用する低侵襲高周波デバイスです。

Genius システムは、Infini デバイスと実質的に同等であり、針挿入のためのデジタル制御の直接駆動機構と、針挿入を容易にする改良された針設計を備えています。 Genius システムのアクティブ チップは、Infini デバイスと実質的に同等です。 Genius システムのハンドピースも再設計され、より軽量で人間工学に基づいたものになりました。

ECO2 レーザー システム (K091115) は、軟部組織のアブレーション (除去)、表面再生、および凝固を必要とする皮膚科手術での使用に適しています。 さらに、120 ミクロンと 300 ミクロンのスポット サイズは、しわの治療に使用されます。しわ、畝、小じわ、テクスチャの不規則性、色素性病変、血管色素異常症。 フラクショナル 90 度 BellaV ハンドピースは、皮膚のフラクショナル CO2 治療を提供することを目的としており、まだクリアされていません。
PICOPLUS レーザー システム (K173700) は、次のように、皮膚科、一般および形成外科の医療専門分野における外科的および美容的用途での使用が示されています。
LaseMD レーザー システム (K171009) は、軟部組織の凝固、光線性角化症の治療、および良性色素性病変の治療を必要とする皮膚科学的処置での使用が示されている 1927 年のフラクショナル ツリウム レーザーです。太陽黒子 (太陽の黒点) と ephiledes (そばかす)。 クリアしたLaseMDシステムは5Wシステムです。
この研究で使用される LaseMD システムの 2 つの新しいバージョンがありますが、これらは不明で調査目的でのみ使用されます。 クリアされたシステムからこの研究で使用される LaseMD システムの 1 つへの唯一の変更点は、ワットが 20W に増加し、250+ um スポット サイズの新しいチップ構成になったことです。 この研究で使用される他の LaseMD システムは、LaseMD FLEX です。 また、20W の大きなスポット サイズ、変更されたフラットトップ ビーム プロファイル (ガウス ビーム プロファイルとは対照的)、およびより高速なスキャン レートを備えています。 他のすべての技術仕様は、クリアされたデバイスと同じままです。

この研究は何を測定していますか?

主要な結果の測定

結果測定
メジャーの説明
時間枠
主要な結果
時間枠:14日間
治療後 2 週間以内に治療部位で完全な再上皮化が起こることを実証します。
14日間

二次結果の測定

結果測定
メジャーの説明
時間枠
副次的結果
時間枠:2時間
治療直後の皮膚の空胞化と凝固を示します。
2時間

協力者と研究者

ここでは、この調査に関係する人々や組織を見つけることができます。

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研究記録日

これらの日付は、ClinicalTrials.gov への研究記録と要約結果の提出の進捗状況を追跡します。研究記録と報告された結果は、国立医学図書館 (NLM) によって審査され、公開 Web サイトに掲載される前に、特定の品質管理基準を満たしていることが確認されます。

主要日程の研究

研究開始 (実際)

2018年10月2日

一次修了 (実際)

2018年10月31日

研究の完了 (予想される)

2020年3月31日

試験登録日

最初に提出

2019年12月17日

QC基準を満たした最初の提出物

2019年12月18日

最初の投稿 (実際)

2019年12月20日

学習記録の更新

投稿された最後の更新 (実際)

2019年12月20日

QC基準を満たした最後の更新が送信されました

2019年12月18日

最終確認日

2019年12月1日

詳しくは

本研究に関する用語

その他の研究ID番号

  • L18006

個々の参加者データ (IPD) の計画

個々の参加者データ (IPD) を共有する予定はありますか?

いいえ

医薬品およびデバイス情報、研究文書

米国FDA規制医薬品の研究

いいえ

米国FDA規制機器製品の研究

はい

米国で製造され、米国から輸出された製品。

いいえ

この情報は、Web サイト clinicaltrials.gov から変更なしで直接取得したものです。研究の詳細を変更、削除、または更新するリクエストがある場合は、register@clinicaltrials.gov。 までご連絡ください。 clinicaltrials.gov に変更が加えられるとすぐに、ウェブサイトでも自動的に更新されます。

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