薄いフェノタイプ症例における垂直インプラント位置が辺縁骨吸収に及ぼす影響

クリスタル骨の保存は極めて重要であり、インプラント埋入開始時から優先されるべきです。 十分な量のインプラント周囲骨は審美的成功とインプラント安定性に寄与します。 クリスタル骨は審美性と機能の両方に寄与します。 クリスタル骨の吸収は隣接面乳頭支持の喪失と歯肉退縮として現れ、インプラント周囲炎を引き起こし審美性を損なうことになります（Degidi et al., 2011）。

埋入深度に関して、インプラントは骨内の様々なレベルに埋入することができ、これは周囲辺縁骨を含むインプラント周囲組織に影響を与えます。 したがって、骨縁に対してより深い位置（サブクレスタル埋入）へのインプラント埋入は、クレスタル埋入と比較してインプラント周囲軟組織および硬組織の維持に寄与する可能性のある方法として提案されていますが、この主張には議論の余地があります（Pellicer-Chover et al., 2019）。

本研究は、エジプト・カイロ大学歯学部口腔内科・歯周病学部門で実施されます。

患者はカイロ大学口腔内科・歯周病学部門の外来診療所から選抜されます。

各患者は適格基準を満たしていることを確認するため検査を受けます。 完全な内科的・歯科的病歴を聴取し、適切な口腔内検査を実施します。 その後、術前コーンビームCT（CBCT）を撮影し、頬舌側骨幅と骨高を評価するとともに、対象領域が病的病変から解放されていることを確認します。

すべての手順を各患者に詳細に説明し、臨床試験への参加に同意するインフォームド・コンセントを患者から取得します。 その後、患者はまず歯周治療のための第I相療法（従来の歯肉縁上スケーリングおよび歯肉縁下デブリードメント）を受けます。 次に厳格な口腔衛生指導が行われ、4週間後に患者を再評価します。 症例の再評価は、外科的処置前に炎症徴候がなく正常組織が存在することを確認するためです。

臨床写真は、ベースライン時、手術中、および術後3、6、12ヶ月時に撮影されます。

患者は無作為に2群に割り付けられます：

介入群：遅延インプラントを骨縁下2mmに埋入し即時仮歯装着を行う患者

対照群：遅延インプラントを骨縁レベルに埋入し即時仮歯装着を行う患者

外科的処置：

1. 対象領域の唇側および口蓋側に浸潤法を用いて表面麻酔を施行します。
2. 骨を露出させるための全層正中切開を行います。
3. メーカー指示に従ってインプラント埋入を実施します；ドリルを順次使用して必要なインプラント径に達し、オステオトミー部位に平行ピンを挿入して頬舌方向および近遠心方向の適切な位置を評価します

4. その後インプラントを埋入します： 介入群：歯槽骨縁から2mm根尖側に十分な一次安定性を得て埋入。 対照群：歯槽骨縁と同じ高さに十分な一次安定性を得て埋入。

5. インプラント埋入後、治癒カラーをインプラント上に装着します。 その後フラップを復位させ縫合します。
6. 縫合後、治癒カラーを除去しスキャンボディを挿入してデジタル印象採得し、両群とも仮性アバットメント上に即時仮装PMMAクラウンを装着します。

術後管理：

術後投薬：

以下の投与を行います：

1. クロルヘキシジン（0.12%）含嗽剤を1日2回、1週間使用。
2. 抗炎症薬（NSAIDs；イブプロフェン400mgを1日3回、3日間）。
3. 抗生物質（ヒビオチック1g）を1日2回、1週間処方。

患者セルフケア指導：

術後指示：

1. 各患者に術後6時間は冷罨法を実施するよう指導します。
2. 術後14日間は手術部位の歯磨きを避け、2日目から毎食後適切に含嗽するよう指導します。
3. 術後24時間は熱い飲料を禁止します。
4. 各患者にクロルヘキシジン含嗽剤を12時間毎に14日間使用するよう指導します。
5. 予期しない合併症があれば術者に連絡するよう患者に依頼します。
6. 縫合糸は術後10日に除去します。

追跡調査：

各患者は術後3、6、9、12ヶ月時に評価されます。