コールドプラズマとヒーリングアバットメントの初期微生物定着
異なるコールドプラズマシステムがインプラントヒーリングアバットメントの初期微生物コロニー形成に及ぼす影響
この前向き分割口内臨床試験では、インプラント手術後のインプラントヒーリングアバットメントにおける初期微生物定着に対する異なるプラズマシステムの効果を評価します。参加前にすべての被験者から書面によるインフォームドコンセントを取得します。
インプラント埋入前に、全患者に0.2%クロルヘキシジンで1分間うがいをするよう指示します。手術は1:100,000エピネフリン含有アルチカインによる局所麻酔下で行われます。全層皮弁を挙上し、メーカーのプロトコルに従って生理食塩水洗浄下でインプラントサイトの骨切り術を準備します。全患者において、同じ手術セッションで4本のインプラントを埋入します。全4本のインプラントの骨切り術完了後、各インプラントサイトは封筒法により以下のいずれかの条件に割り付けられます:対照、真空プラズマ、アルゴンジェットプラズマ、または低温大気圧プラズマ。対応するヒーリングアバットメントを装着し、創縁を一次縫合します。
介入群は対照、真空プラズマ、アルゴンジェットプラズマ、低温大気圧プラズマと定義され、これらの群ラベルをすべての統計解析で使用します。すべての群で、直径4.5mm、長さ6mmのチタン製Medentikaヒーリングアバットメントを使用します。対照群では前処理は行いません。低温大気圧プラズマ群では、relyon plasma GmbH(ドイツ)製のpiezobrush® PZ3装置を使用し、作動ガスとして周囲空気を用いて60秒間プラズマを適用します(電気接続:110-240 V/50-60 Hz;最大消費電力:18 W)。ノズルと表面の距離は5mmに標準化し、適用角度は垂直に保ちます。アルゴンジェットプラズマ群では、同じpiezobrush® PZ3装置をマルチガスモジュールおよびアルゴンガスとともに使用し、調整器を介して11 L/分の流量とし、適用時間、距離、角度は低温大気圧プラズマ群と同じにします。真空プラズマ群では、Plasma Active装置を使用して60秒間の処理を適用します。装置の公称技術仕様は以下の通りです:寸法150×354×267 mm、静電容量式タッチスクリーンIPS LCDディスプレイ、2つの処理スロット、チャンバー寸法65×28 mm、処理時間60-120秒、電源220 V/50-60 Hz、消費電力≤200 W。
術後期間中、全患者に標準ケアプロトコルを適用します。アモキシシリン/クラブラン酸(またはペニシリンアレルギーの場合はクリンダマイシン)を7日間、イブプロフェンを3日間、0.2%クロルヘキシジン洗口剤を1日2回処方します。抜糸は術後1週目に行います。同じ来院時に、ヒーリングアバットメントも除去して微生物学的分析に送り、新しいアバットメントをその位置に装着します。
調査の概要
研究の種類
入学 (実際)
段階
- 適用できない
連絡先と場所
研究場所
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Kahramanmaraş、トルコ(Türkiye)
- Kahramanmaras Sutcu Imam University, Faculty of Dentistry
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参加基準
適格基準
就学可能な年齢
- 大人
- 高齢者
健康ボランティアの受け入れ
説明
包含基準:
- カフラマンマラシュ・スットチュ・イマム大学歯学部口腔顎顔面外科にインプラント治療のために来院し、固定式補綴物を支えるために少なくとも4本のインプラントを必要とする無歯顎領域を有する患者。
- 研究参加への意欲があること。
- 年齢が18歳以上であること。
- 研究で使用されるいずれの製品にもアレルギーがないこと。
- 非喫煙者または軽度喫煙者(1日10本未満)。
- 良好な患者コンプライアンス、研究内容の十分な理解、および署名済みインフォームドコンセントの提供。
- 良好または中程度の口腔衛生状態。
除外基準:
- 研究参加の拒否。
- 歯槽堤増大術の必要性。
- 全身健康状態が不良(免疫系疾患、コントロール不良の糖尿病、進行中の化学療法または放射線療法、頭頸部への放射線治療歴、アルコール依存、薬物依存、または精神疾患を含む)。
- 未治療の歯周病の存在。
- 重度喫煙者(1日10本以上)。
- 年齢が18歳未満。
研究計画
研究はどのように設計されていますか?
デザインの詳細
- 主な目的:防止
- 割り当て:ランダム化
- 介入モデル:並列代入
- マスキング:独身
武器と介入
参加者グループ / アーム |
介入・治療 |
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アクティブコンパレータ:対照群
インプラント埋入後、事前処理を施していないヒーリングアバットメントが装着された。
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インプラント埋入後、未処理のヒーリングアバットメントが装着されました。
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実験的:vacuum plasma
インプラント埋入後、真空プラズマ処理されたヒーリングアバットメントを装着した。
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真空プラズマ群では、ヒーリングアバットメントをPlasma Activeデバイスで60秒間処理しました。
デバイスの公称技術仕様は以下の通りです:寸法、150 × 354 × 267 mm;静電容量式タッチスクリーンIPS LCDディスプレイ;2つの処理スロット;チャンバー寸法、65 × 28 mm;処理時間、60〜120秒;電源、220 V/50-60 Hz;消費電力、≦200 W。インプラント埋入後、真空プラズマ処理されたヒーリングアバットメントを装着しました。
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実験的:アルゴンジェットプラズマ
インプラント埋入後、アルゴンジェットプラズマ処理したヒーリングアバットメントが配置されました。
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アルゴンジェットプラズマ群では、ヒーリングアバットメントをrelyon plasma GmbH(ドイツ)が製造するMultigas Moduleを装備したpiezobrush® PZ3デバイスを用いて、アルゴンジェットプラズマで60秒間処理しました。
作用ガスにはアルゴンガスを使用し、レギュレーターを介して流量11 L/minを供給しました。
ノズルと表面の距離は5 mmに標準化し、塗布角度は垂直に保ちました。
インプラント埋入後、アルゴンジェットプラズマ処理済みのヒーリングアバットメントを装着しました。
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実験的:低温大気圧プラズマ
インプラント埋入後、低温大気圧プラズマ処理されたヒーリングアバットメントが設置された。
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コールドアトモスフェリックプラズマ群では、ヒーリングアバットメントをrelyon plasma GmbH(ドイツ)製のpiezobrush® PZ3デバイスを用いて、周囲空気を作動ガスとして(電気接続:110-240 V/50-60 Hz;最大消費電力:18 W)、60秒間コールドアトモスフェリックプラズマ処理した。
ノズルから表面までの距離は5mmに標準化し、塗布角度は垂直に保持した。 インプラント埋入後、コールドアトモスフェリックプラズマ処理されたヒーリングアバットメントを装着した。 |
この研究は何を測定していますか?
主要な結果の測定
結果測定 |
メジャーの説明 |
時間枠 |
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インプラントヒーリングアバットメントからの総微生物負荷(log10[CFU/mL + 1])
時間枠:インプラント埋入2週間後(術後2週間)
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除去されたインプラントヒーリングアバットメントから測定された培養に基づく総微生物量。
総CFU/mLは、好気性CFU/mLと嫌気性CFU/mLの合計として定義されます。
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インプラント埋入2週間後(術後2週間)
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二次結果の測定
結果測定 |
メジャーの説明 |
時間枠 |
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インプラントヒーリングアバットメントから回収された好気性および嫌気性微生物負荷(log10[CFU/mL + 1])
時間枠:インプラント埋入2週間後(術後2週目)
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除去されたインプラントヒーリングアバットメントから測定された培養ベースの好気性微生物負荷。
除去されたインプラントヒーリングアバットメントから測定された培養ベースの嫌気性微生物負荷。
嫌気性の増殖の存在。嫌気性CFU/mLが0より大きいと定義される。
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インプラント埋入2週間後(術後2週目)
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協力者と研究者
出版物と役立つリンク
一般刊行物
- Canullo L, Rakic M, Corvino E, Burton M, Krumbeck JA, Chittoor Prem A, Ravida A, Ignjatovic N, Sculean A, Menini M, Pesce P. Effect of argon plasma pre-treatment of healing abutments on peri-implant microbiome and soft tissue integration: a proof-of-concept randomized study. BMC Oral Health. 2023 Jan 17;23(1):27. doi: 10.1186/s12903-023-02729-1.
- Yang Y, Zheng M, Yang Y, Li J, Su YF, Li HP, Tan JG. Inhibition of bacterial growth on zirconia abutment with a helium cold atmospheric plasma jet treatment. Clin Oral Investig. 2020 Apr;24(4):1465-1477. doi: 10.1007/s00784-019-03179-2. Epub 2020 Jan 15.
- Ardakani MRT, Meimandi M, Amid R, Pourahmadie AD, Shidfar S. In Vitro Comparison of Microbial Leakage of the Implant-Healing Abutment Interface in Four Connection Systems. J Oral Implantol. 2019 Oct;45(5):350-355. doi: 10.1563/aaid-joi-D-18-00311. Epub 2019 Aug 7.
研究記録日
主要日程の研究
研究開始 (実際)
一次修了 (実際)
研究の完了 (実際)
試験登録日
最初に提出
QC基準を満たした最初の提出物
最初の投稿 (実際)
学習記録の更新
投稿された最後の更新 (実際)
QC基準を満たした最後の更新が送信されました
最終確認日
詳しくは
本研究に関する用語
その他の研究ID番号
- HRÜ/25.03.27
個々の参加者データ (IPD) の計画
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医薬品およびデバイス情報、研究文書
米国FDA規制医薬品の研究
米国FDA規制機器製品の研究
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