使用低强度激光治疗趾甲真菌的研究

纳入标准：

• 至少一个大脚趾甲存在甲癣。
• 疾病受累至少为 25%。
• 在整个研究参与过程中，受试者愿意并且能够避免对其脚趾甲甲真菌病采用其他（非研究）治疗（传统或替代）。
• 在整个研究参与过程中，受试者愿意并且能够避免使用指甲化妆品，例如透明和/或彩色指甲油。

排除标准：

• 疾病的尖峰延伸到指甲基质。
• 涉及月牙的感染，例如遗传性指甲疾病、原发性疾病。
• 超过近端皱襞的清晰（未受影响的）甲板长度小于 2 毫米。
• 存在皮肤癣菌（厚厚的真菌菌丝和甲板和甲床之间的坏死角蛋白）。
• 慢性足底（鹿皮鞋）足癣。
• 当前或过去的皮肤和/或指甲牛皮癣病史。
• 并发扁平苔藓。
• 甲癣。
• 大脚趾甲有以下任何一种情况：
• 近端甲下甲癣
• 白色浅甲真菌病
• 皮肤癣菌或“黄色穗状花序/条纹”
• 完全侧部疾病
• 大脚趾甲的混杂问题/异常。
• 如果实现清除感染，任何可能阻止指甲正常出现的异常。
• 研究者认为脚趾甲无法正常。
• 以前治疗甲癣的多次反复失败的历史。
• 受影响的大脚趾甲外伤。
• 在过去 6 个月内使用过口服抗真菌药物。
• 在过去 1 个月内使用过局部抗真菌药物。
• 受影响的大脚趾的先前手术治疗。
• 在过去六个月内患过癌症和/或接受过任何类型的癌症治疗。
• 外周血管疾病或外周循环障碍。
• 未控制的糖尿病史。
• 已知的免疫缺陷。
• 已知对光疗的敏感性或禁忌症。
• 在参与研究结束前怀孕、哺乳或计划怀孕。
• 严重的精神疾病，如痴呆症或精神分裂症；过去两年内曾因精神病住院。
• 发育障碍或认知障碍会妨碍对知情同意书的充分理解和/或遵循研究对象要求和/或记录必要的研究测量的能力。
• 参与诉讼和/或接受以任何方式与研究参数相关的残疾福利。
• 在过去 30 天内参加过临床研究或其他类型的研究。