- ICH GCP
- Registre américain des essais cliniques
- Essai clinique NCT01971268
Comparez le taux de réussite de l'implant dentaire T3 (Biomet 3I) avec ou sans concept de plateforme-commutateur
Comportement osseux marginal des implants dentaires selon différents protocoles de réhabilitation
Aperçu de l'étude
Statut
Les conditions
Description détaillée
Les patients d'un cabinet privé qui ont reçu des implants dentaires (implant dentaire T3 Biomet 3I) de novembre 2012 à octobre 2013 étaient éligibles pour participer à l'étude.
Deux groupes ont été formés : un groupe a reçu un implant dentaire T3 avec concept de platform switch et l'autre a reçu un implant avec type de connexion adaptée à la plateforme.
Nous évaluons l'ostéointégration à T1 (12 semaines) et la position de l'os marginal par rapport à la plate-forme implantaire à l'inclusion (installation de l'implant) T0 et à nouveau à T1 et T2.
À partir de l'enregistreur de données en T0, T1 et T2, nous évaluons les changements de position de l'os marginal.
Type d'étude
Inscription (Anticipé)
Contacts et emplacements
Lieux d'étude
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Lisbon, Le Portugal, 1500-662
- Instituto de Implantologia
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Critères de participation
Critère d'éligibilité
Âges éligibles pour étudier
Accepte les volontaires sains
Sexes éligibles pour l'étude
Méthode d'échantillonnage
Population étudiée
La description
Critère d'intégration:
- Réhabilitation implantaire unitaire
- Maxillaire et mandibule
- Implant dentaire Biomet 3I T3 posé
- Réhabilitation finale placée
Critère d'exclusion:
- Implants immédiats
- Impossibilité de mesure radiographique
- Absence de radiographie T0 de référence
- Tabagisme (plus de 10 cigarettes par jour)
- Diabète
- Patients recevant une radio ou/et une chimiothérapie
Plan d'étude
Comment l'étude est-elle conçue ?
Détails de conception
Cohortes et interventions
Groupe / Cohorte |
Intervention / Traitement |
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Groupe de plateforme-commutateur
Implant dentaire T3, avec concept de plate-forme d'implant dentaire à commutateur de plate-forme, mesure la perte osseuse marginale
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placer les implants dentaires selon les directives du fabricant
Autres noms:
Placer l'implant dentaire avec un pilier plus étroit que la plate-forme de l'implant
Autres noms:
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Groupe correspondant à la plate-forme
Implant dentaire T3, concept de plate-forme d'implant dentaire adapté à la plate-forme, mesure de la perte osseuse marginale
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placer les implants dentaires selon les directives du fabricant
Autres noms:
Placer l'implant dentaire avec un pilier de même taille que la plate-forme
Autres noms:
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Que mesure l'étude ?
Principaux critères de jugement
Mesure des résultats |
Description de la mesure |
Délai |
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Position de la plate-forme implantaire par rapport à l'os marginal
Délai: Au départ (T0)
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Comparez la position de l'os marginal à la ligne de base T0 (mesurée par radiographie (numérique) de la position la plus coronale de l'os marginal à la position la plus coronale de la plate-forme, mesurée dans la partie la plus mésiale et la plus distale (deux mesures) de la plate-forme de l'implant.
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Au départ (T0)
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Position osseuse marginale à 8 semaines
Délai: À 12 semaines (T1) après le départ
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Comparer la position de l'os marginal à T1, 12 semaines après la ligne de base (T0) (mesurée par radiographie (numérique) de la position la plus coronale de l'os marginal à la position la plus coronale de la plate-forme, mesurée dans la partie la plus mésiale et la plus distale (deux mesures) de la plateforme implantaire
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À 12 semaines (T1) après le départ
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Position osseuse marginale à 12 semaines
Délai: À 18 semaines (T2) après la ligne de base (T0)
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Comparer la position de l'os marginal à T2, 18 semaines à partir de la ligne de base (T0) (mesurée par radiographie (numérique) de la position la plus coronale de l'os marginal à la position la plus coronale de la plate-forme, mesurée dans la partie la plus mésiale et la plus distale (deux mesures) de la plateforme implantaire.
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À 18 semaines (T2) après la ligne de base (T0)
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Mesures de résultats secondaires
Mesure des résultats |
Description de la mesure |
Délai |
|---|---|---|
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Ostéointégration
Délai: A 12 semaines
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mesurer la capacité de l'implant à s'intégrer dans l'os
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A 12 semaines
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Collaborateurs et enquêteurs
Parrainer
Les enquêteurs
- Chercheur principal: Andre Chen, Msc, Implantology Institute
- Chaise d'étude: Helena Francisco, Msc, Implantology Institute
Dates d'enregistrement des études
Dates principales de l'étude
Début de l'étude
Achèvement primaire (Anticipé)
Achèvement de l'étude (Anticipé)
Dates d'inscription aux études
Première soumission
Première soumission répondant aux critères de contrôle qualité
Première publication (Estimation)
Mises à jour des dossiers d'étude
Dernière mise à jour publiée (Estimation)
Dernière mise à jour soumise répondant aux critères de contrôle qualité
Dernière vérification
Plus d'information
Termes liés à cette étude
Termes MeSH pertinents supplémentaires
- Effets physiologiques des médicaments
- Agents neurotransmetteurs
- Mécanismes moléculaires de l'action pharmacologique
- Inhibiteurs d'enzymes
- Agents gastro-intestinaux
- Inhibiteurs des enzymes du cytochrome P-450
- Agents anti-ulcéreux
- Antagonistes de l'histamine
- Agents d'histamine
- Inhibiteurs du cytochrome P-450 CYP1A2
- Antagonistes de l'histamine H2
- Cimétidine
Autres numéros d'identification d'étude
- II-02
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