Effetto della terapia laser a basso livello su pazienti diabetici controllati di tipo II dopo l'inserimento di impianti dentali
Influenza della terapia laser a basso livello sui profili radiografici e biochimici nei pazienti diabetici controllati di tipo II dopo l'inserimento di impianti dentali: uno studio caso-controllo randomizzato
Panoramica dello studio
Stato
Stato
Condizioni
Condizioni
Intervento / Trattamento
Intervento / Trattamento
Descrizione dettagliata
Tipo di studio
Tipo di studio
Iscrizione (Effettivo)
Iscrizione
Fase
Fase
- Non applicabile
Contatti e Sedi
Luoghi di studio
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Cairo, Egitto
- Misr International University
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Cairo, Egitto
- Faculty of Dental Medicine for Girls, Al-Azhar University
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Cairo, Egitto
- Misr University for Science and Technology (MUST)
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El-Arish, Egitto
- Sinai University
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Gamasa, Egitto
- Delta University of Science and Technology
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Criteri di partecipazione
Criteri di ammissibilità
Criteri di ammissibilità
Età idonea allo studio
Accetta volontari sani
Sessi ammissibili allo studio
Descrizione
Criterio di inclusione:
- Nessuno dei partecipanti aveva altre gravi malattie o gravi complicanze diabetiche.
- Una storia medica dettagliata di ciascun soggetto è stata ottenuta secondo il questionario dettagliato del Cornell Medical Index modificato [22].
- Il controllo del diabete è stato misurato dall'emoglobina glicosilata A1c (HbA1c) dei campioni di sangue, i pazienti avevano un controllo glicemico relativamente stabile, come dimostrato da una differenza non superiore all'1% in almeno due dosaggi di HbA1c nei 6 mesi precedenti.
- Sono stati selezionati partecipanti con regione mandibolare posteriore parzialmente edentula con densità ossea compresa tra D2 e D3, con dente adiacente con parodonto sano.
Criteri di esclusione:
- Qualsiasi malattia sistemica incontrollata che impedisca l'intervento chirurgico per il posizionamento di impianti dentali; (b) Necessità di rigenerazione ossea guidata o rialzo del seno per il posizionamento dell'impianto, e (c) Storia di radioterapia nella testa e nel collo.
- Sono state escluse anche le donne in gravidanza, le fumatrici ei pazienti con abitudini parafunzionali, con problemi psicologici o non collaboranti.
Piano di studio
Come è strutturato lo studio?
Dettagli di progettazione
- Scopo principale: Terapia di supporto
- Assegnazione: Randomizzato
- Modello interventistico: Assegnazione incrociata
- Mascheramento: Separare
Numero di armi
Armi e interventi
Gruppo di partecipanti / ArmGruppo di partecipanti / Arm |
Intervento / TrattamentoIntervento / Trattamento |
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Nessun intervento: Controllo
Gli impianti sono stati inseriti in modo casuale in 20 pazienti con T2DM non sottoposti a laser (controllo)
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Sperimentale: Terapia laser di basso livello
L'impianto è stato inserito in modo casuale in 20 pazienti con T2DM sottoposti a laser (intervento)
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La terapia laser a basso livello (LLLT) con impianti dentali è stata suggerita per migliorare la qualità dell'osso durante l'osteointegrazione.
Laser a basso livello (diodo all'arseniuro di alluminio e gallio [Ga-Al-As]) (lunghezza d'onda: 808 nm, densità di potenza media: 50 mW, diametro del punto circolare: 0,71
cm, area del punto: 0,4 cm2) in modalità continua è stato applicato in sei punti a contatto con i tessuti molli perimplantari (1,23 minuti in ciascun punto di applicazione; dose per punto 11 J) prima e immediatamente dopo la sutura.
I punti di applicazione sono stati divisi in due punti nella regione labiale dove sarebbe stato posizionato l'impianto (apicale e cervicale); due punti nella regione linguale (apicale e cervicale); e due punti in direzione occlusale.
Dopo la sutura il protocollo laser è stato ripetuto negli stessi punti seguendo lo stesso protocollo, ottenendo una dose totale di 66 J per ogni momento di applicazione (prima e dopo il posizionamento dell'impianto).
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Cosa sta misurando lo studio?
Misure di risultato primarie
Misure di risultato primarie
Misura del risultato |
Misura Descrizione |
Lasso di tempo |
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Densità ossea
Lasso di tempo: Settimana 1
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La densità ossea è stata valutata nel liquido crevicolare perimplantare (PICF) nei pazienti con diabete mellito di tipo II (T2DM) controllati con laser rispetto ai pazienti con T2DM non sottoposti a laser.
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Settimana 1
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Densità ossea
Lasso di tempo: Mese 1
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La densità ossea è stata valutata nel liquido crevicolare perimplantare (PICF) nei pazienti con diabete mellito di tipo II (T2DM) controllati con laser rispetto ai pazienti con T2DM non sottoposti a laser.
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Mese 1
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Densità ossea
Lasso di tempo: Mese 3
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La densità ossea è stata valutata nel liquido crevicolare perimplantare (PICF) nei pazienti con diabete mellito di tipo II (T2DM) controllati con laser rispetto ai pazienti con T2DM non sottoposti a laser.
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Mese 3
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Densità ossea
Lasso di tempo: Mese 4
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La densità ossea è stata valutata nel liquido crevicolare perimplantare (PICF) nei pazienti con diabete mellito di tipo II (T2DM) controllati con laser rispetto ai pazienti con T2DM non sottoposti a laser.
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Mese 4
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Livello di osteoprotegrina (OPG).
Lasso di tempo: Settimana 1
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Il livello di osteoprotegrina (OPG) è stato valutato nel liquido crevicolare perimplantare (PICF) in pazienti con diabete mellito di tipo II (T2DM) controllati con laser rispetto a pazienti con T2DM non sottoposti a laser.
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Settimana 1
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Livello di osteoprotegrina (OPG).
Lasso di tempo: Mese 1
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Il livello di osteoprotegrina (OPG) è stato valutato nel liquido crevicolare perimplantare (PICF) in pazienti con diabete mellito di tipo II (T2DM) controllati con laser rispetto a pazienti con T2DM non sottoposti a laser.
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Mese 1
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Livello di osteoprotegrina (OPG).
Lasso di tempo: Mese 3
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Il livello di osteoprotegrina (OPG) è stato valutato nel liquido crevicolare perimplantare (PICF) in pazienti con diabete mellito di tipo II (T2DM) controllati con laser rispetto a pazienti con T2DM non sottoposti a laser.
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Mese 3
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Livello di osteoprotegrina (OPG).
Lasso di tempo: Mese 4
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Il livello di osteoprotegrina (OPG) è stato valutato nel liquido crevicolare perimplantare (PICF) in pazienti con diabete mellito di tipo II (T2DM) controllati con laser rispetto a pazienti con T2DM non sottoposti a laser.
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Mese 4
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Collaboratori e investigatori
Sponsor
Sponsor
Collaboratori
Collaboratori
Studiare le date dei record
Studia le date principali
Inizio studio (Effettivo)
Inizio studio
Completamento primario (Effettivo)
Completamento primario
Completamento dello studio (Effettivo)
Completamento dello studio
Date di iscrizione allo studio
Primo inviato
Primo inviato
Primo inviato che soddisfa i criteri di controllo qualità
Primo inviato che soddisfa i criteri di controllo qualità
Primo Inserito (Effettivo)
Primo Inserito
Aggiornamenti dei record di studio
Ultimo aggiornamento pubblicato (Effettivo)
Ultimo aggiornamento pubblicato
Ultimo aggiornamento inviato che soddisfa i criteri QC
Ultimo aggiornamento inviato che soddisfa i criteri QC
Ultimo verificato
Ultimo verificato
Maggiori informazioni
Termini relativi a questo studio
Parole chiave
Termini MeSH pertinenti aggiuntivi
Altri numeri di identificazione dello studio
Altri numeri di identificazione dello studio
- FWA00025577
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