- ICH GCP
- Register voor klinische proeven in de VS.
- Klinische proef NCT07535658
Effectiviteit van multi-type fotolithografie vlakke microstructuren lenzen voor kinderbijziendheidscontrole
Vergelijkende Werkzaamheid en Veiligheid van Multi-Type Fotolithografie Platte Microstructuur Brillenglazen Versus Brillenglazen Met Asferische Lensjes voor Myopiecontrole bij Chinese Kinderen: Een 12-Maanden Gerandomiseerde Gecontroleerde Studie
Het doel van dit klinische onderzoek is te leren of fotolithografische vlakke microstructuren lenzen werken om bijziendheid bij kinderen te voorkomen. Het zal ook leren over de veiligheid van verschillende ontwerpen van fotolithografische vlakke microstructuren lenzen. De belangrijkste vragen die het beoogt te beantwoorden zijn:
Zijn fotolithografische vlakke microstructuren lenzen effectief en veilig in het voorkomen van bijziendheid bij kinderen? Beïnvloedt de diepte van getinte lenzen de visuele kwaliteit? Onderzoekers zullen fotolithografische vlakke microstructuren lenzen vergelijken met een brilglazen met asferische lensjes om te zien of fotolithografische vlakke microstructuren lenzen werken om bijziendheid bij kinderen te voorkomen.
Deelnemers zullen:
Fotolithografische vlakke microstructuren lenzen of brilglazen met asferische lensjes meer dan 8 uur per dag dragen gedurende 1 jaar.
Eens per 3 maanden de kliniek bezoeken voor controles en tests.
Studie Overzicht
Toestand
Conditie
Interventie / Behandeling
- Apparaat: het dragen van fotolithografie plano-microstructuurlenzen met multi-punt defocus ontwerp, niet-verblekende optische eigenschap
- Apparaat: het dragen van Photolithography Plano Microstructuur Lenzen omvat een optische architectuur met meerdere defocuspunten, met fotochrome eigenschappen en een lichttransmissie van 55% na activering
- Apparaat: het dragen van Photolithography Plano Microstructuur Lenzen bevat een optische architectuur met meerdere defocuspunten, met fotochrome eigenschappen en een lichtdoorlatendheid van 35% na activering
- Apparaat: het dragen van Fotolithografie Plano Microstructuurlenzen die ontworpen zijn om contrastgevoeligheid te verminderen en met een niet-vervullende optische eigenschap
- Apparaat: het dragen van Plano-microstructuurlenzen met een multi-punt defocus-ontwerp met asferische lensjes (Essilor Stellest)
Studietype
Inschrijving (Geschat)
Fase
- Niet toepasbaar
Contacten en locaties
Studiecontact
- Naam: Qiurong Lin
- Telefoonnummer: +8615216698330
- E-mail: LQRoph@163.com
Studie Locaties
-
-
-
Shanghai, China, 200336
- Shanghai Eye Disease Prevention and Treatment Center
-
-
Deelname Criteria
Geschiktheidscriteria
Leeftijden die in aanmerking komen voor studie
- Kind
Accepteert gezonde vrijwilligers
Beschrijving
Inclusiecriteria:
- Leeftijd: 6 jaar ≤ leeftijd ≤ 8 jaar (berekend op basis van de datum van geïnformeerde toestemming);
- De sferische equivalent (SE) van beide ogen is 0D tot +1,00D (inclusief grenswaarden) na cycloplegie;
- Astigmatisme: Cilindersterkte van beide ogen ≤ 1,00D;
- Anisometropie: Verschil in sferische equivalent tussen beide ogen ≤ 1,00D;
- Gecorrigeerde gezichtsscherpte: Best gecorrigeerde gezichtsscherpte (BCVA) van beide ogen ≥ 1,0 (decimale notatie, 5m);
- Algemene gezondheidstoestand: Geen systemische syndromen die de oogontwikkeling beïnvloeden; geen langdurig gebruik van groeihormoon, corticosteroïden of anti-epileptica;
- Eerdere interventie: Geen gebruik van enige bijziendheidscontrolemethoden in de afgelopen 3 maanden, waaronder maar niet beperkt tot: multifocale brillen, atropine oogdruppels, roodlichttherapie, acupunctuur, etc.
- Naleving van brildragen: Ouders zorgen ervoor dat het kind de bril ≥8 uur per dag draagt;
- Follow-up capaciteit: In staat om geplande follow-ups bij te wonen gedurende 12 maanden (4 bezoeken in totaal);
- Geïnformeerde toestemming van voogd: Wettelijke voogd ondertekent het geïnformeerde toestemmingsformulier; kinderen ondertekenen ook het instemmingsformulier.
Exclusiecriteria:
- Geschiedenis of aanwezigheid van glaucoom, hoornvliesziekte of andere organische oogaandoeningen, of acute of chronische oogontsteking;
- Gecombineerd met systemische ernstige ziekten, psychische aandoeningen of systemische collageenmetabolismestoornissen;
- Heeft in de afgelopen 3 maanden bijziendheidsinterventiegeneesmiddelen of -apparaten gebruikt;
- Deelnemers die in de afgelopen 3 maanden hebben deelgenomen aan andere vergelijkbare klinische studies;
- Diagnose van amblyopie, constant strabisme en andere aangeboren oogziekten;
- Personen die allergisch zijn voor het lensmateriaal of producten gerelateerd aan de studie;
- Allergie voor mydriatica en gerelateerde oogmedicijnen;
- Allergisch voor fotochrome materialen of gerelateerde kleurstoffen; gebruik van fotosensibiliserende geneesmiddelen; lijdt aan door licht geïnduceerde huid- of neurologische aandoeningen;
- Niet in staat om de studie-inhoud te begrijpen of niet in staat om mee te werken aan de follow-up;
- Andere redenen waarom de onderzoeksarts van mening is dat de patiënt niet geschikt is voor de studie.
Studie plan
Hoe is de studie opgezet?
Ontwerpdetails
- Primair doel: Preventie
- Toewijzing: Gerandomiseerd
- Interventioneel model: Parallelle opdracht
- Masker: Enkel
Wapens en interventies
Deelnemersgroep / Arm |
Interventie / Behandeling |
|---|---|
|
Experimenteel: PPML (meerpunts defocus-ontwerp, niet-vervagen, Nuo Tong)
De groep draagt fotolithografie plano-microstructuurlenzen (PPML) met een multipunt defocus-ontwerp, vervaardigd door Nuo Tong, die een niet-vervullende optische eigenschap hebben.
|
het dragen van fotolithografie plano-microstructuurlenzen (PPML) met een ontwerp voor meervoudige puntsdefocus, vervaardigd door Nuo Tong, die een niet-vervullende optische eigenschap hebben gedurende meer dan 8 uur per dag.
|
|
Experimenteel: PPML (meerpunts defocus ontwerp, kleur, lichtdoorlatendheid 55% na fotochromie, Nuo Tong)
PPML (Photolithography Plano Microstructure Lenses) bevat een optische architectuur met meervoudige defocus-punten, vervaardigd door Nuo Tong, met fotochrome eigenschappen en een lichtdoorlatendheid van 55% na activering.
|
Het dragen van Photolithography Plano Microstructuurlenzen omvat een optische architectuur met meerdere defocuspunten, vervaardigd door Nuo Tong, met fotochrome eigenschappen met een lichttransmissie van 55% na activering gedurende meer dan 8 uur.
|
|
Experimenteel: PPML (multi-point defocus-ontwerp, kleur, lichtdoorlatendheid 35% na fotochromie, Nuo Tong)
PPML (Photolithography Plano Microstructure Lenses) bevat een optische architectuur met meerdere punten van defocus die is vervaardigd door Nuo Tong, met fotochrome eigenschappen en een lichtdoorlatendheid van 35% na activering.
|
Het dragen van Photolithography Plano Microstructuurlenzen bevat een optische architectuur met meerdere defocuspunten, vervaardigd door Nuo Tong, met fotochrome eigenschappen en een lichtdoorlatendheid van 35% na activatie gedurende meer dan 8 uur.
|
|
Experimenteel: PPML (ontworpen om contrast te verminderen, niet vervagend, Nuo Tong)
PPML (Photolithography Plano Microstructure Lenses), ontworpen door Nuo Tong om contrastgevoeligheid te verminderen en met een niet-vervullende optische eigenschap
|
het dragen van Photolithography Plano Microstructuurlenzen ontworpen door Nuo Tong om contrastgevoeligheid te verminderen en met een niet-verblekende optische eigenschap voor meer dan 8 uur
|
|
Actieve vergelijker: Plano-microstructuurlenzen (multi-punt defocus-ontwerp, asferische lensjes, Essilor Stellest)
Plano-microstructuurlenzen met multi-point defocus-ontwerp met asferische lensjes (Essilor Stellest)
|
het dragen van plano-microstructuurlenzen met een multi-point defocus-ontwerp met asferische lensjes (Essilor Stellest) gedurende meer dan 8 uur.
|
Wat meet het onderzoek?
Primaire uitkomstmaten
Uitkomstmaat |
Maatregel Beschrijving |
Tijdsspanne |
|---|---|---|
|
Gebruik 1% cyclopentolaathydrochloride oogdruppels (Cyclogyl) voor cycloplegie en vergelijk het verschil in sfeerequivalent brekingsveranderingen over 12 maanden.
Tijdsspanne: Van inschrijving tot het einde van de behandeling na 12 maanden
|
Geautomatiseerde refractometertest, De formule voor het berekenen van sferisch equivalent vermogen: sferisch vermogen + 0,5 * cilindervermogen
|
Van inschrijving tot het einde van de behandeling na 12 maanden
|
Secundaire uitkomstmaten
Uitkomstmaat |
Maatregel Beschrijving |
Tijdsspanne |
|---|---|---|
|
Verschil in axiale lengte (AL, mm) na 12 maanden ten opzichte van de uitgangswaarde
Tijdsspanne: Van inschrijving tot het einde van de behandeling na 12 maanden
|
Meet de lengte van de oogas met de IOL Master 700 en vergelijk het verschil in oogaslengte over 12 maanden.
|
Van inschrijving tot het einde van de behandeling na 12 maanden
|
Medewerkers en onderzoekers
Studie record data
Bestudeer belangrijke data
Studie start (Geschat)
Primaire voltooiing (Geschat)
Studie voltooiing (Geschat)
Studieregistratiedata
Eerst ingediend
Eerst ingediend dat voldeed aan de QC-criteria
Eerst geplaatst (Werkelijk)
Updates van studierecords
Laatste update geplaatst (Werkelijk)
Laatste update ingediend die voldeed aan QC-criteria
Laatst geverifieerd
Meer informatie
Termen gerelateerd aan deze studie
Aanvullende relevante MeSH-voorwaarden
Andere studie-ID-nummers
- QX-2025-A-021
Plan Individuele Deelnemersgegevens (IPD)
Bent u van plan om gegevens van individuele deelnemers (IPD) te delen?
Informatie over medicijnen en apparaten, studiedocumenten
Bestudeert een door de Amerikaanse FDA gereguleerd geneesmiddel
Bestudeert een door de Amerikaanse FDA gereguleerd apparaatproduct
product vervaardigd in en geëxporteerd uit de V.S.
Deze informatie is zonder wijzigingen rechtstreeks van de website clinicaltrials.gov gehaald. Als u verzoeken heeft om uw onderzoeksgegevens te wijzigen, te verwijderen of bij te werken, neem dan contact op met register@clinicaltrials.gov. Zodra er een wijziging wordt doorgevoerd op clinicaltrials.gov, wordt deze ook automatisch bijgewerkt op onze website .