Alterações Dimensionais dos Tecidos Peri-implantes Após Enxerto de Espaço Intermediário Usando Gel de Eritropoetina Misturado com Xenoenxerto. (Um Estudo Clínico Controlado Randomizado)

A distância entre o implante e a parede circundante do defeito é conhecida como defeito ósseo horizontal (também designado por "Jumping Distance" ou "Gap"). Ao preencher o espaço entre o implante e as paredes ósseas vestibulares de alvéolos recentemente extraídos, o material de enxerto ósseo promove a reparação do tecido duro e reduz a perda óssea marginal. Para aumentar o contacto ósseo com a superfície do implante e diminuir a recessão gengival causada pela reabsorção óssea horizontal, é aconselhado o enxerto ósseo no gap.

Vários métodos foram empregues para colmatar o gap ósseo: substitutos ósseos baseados em autoenxerto e aloenxerto, que podem ser utilizados separadamente ou em conjunto com outros materiais como osso liofilizado, xenoenxerto (como osso bovino) e alternativas de enxerto ósseo à base de cerâmica como fosfato de cálcio, sulfato de cálcio e bio-vidro. De acordo com um estudo de Bianchi S, a utilização de xenoenxertos melhorou as qualidades osteocondutoras da regeneração óssea ao demonstrar atividade celular significativa.

O potencial da EPO para melhorar o crescimento ósseo e a proteção dos tecidos através da redução da isquemia e das respostas inflamatórias é uma das suas propriedades não hematopoiéticas. A EPO estimula o desenvolvimento de células estaminais mesenquimais (MSCs) em osteoblastos e participa nas interações de osteoblastos e osteoclastos para promover a formação óssea.