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저레벨 레이저와 발광 다이오드의 조합으로 치과용 임플란트의 안정성을 높일 수 있습니까?

2017년 12월 3일 업데이트: Reza Tabrizi, Shiraz University of Medical Sciences

치과용 임플란트에 저수준 레이저 및 발광 다이오드 사용

대상자는 두 그룹으로 나뉘었다: 그룹 1에서는 임플란트 삽입 후 10일 동안 매일 20분 동안 LLL과 LED를 받았고, 그룹 2에서는 LLL과 LED를 받지 않았다. 임플란트 안정성 지수(ISQ)는 임플란트 식립 후 0,10,21,42 및 63일에 측정되었습니다.

연구 개요

상세 설명

연구에 포함될 자격이 있는 피험자는 하악 제1대구치에 무치악 부위가 있었고 치과 임플란트가 필요했습니다. 뼈에 영향을 미치는 질병, 흡연, 뼈 확대가 필요한 무치악 부위의 뼈 부족, 후속 조치를 위해 돌아오지 않거나 연구 등록을 거부한 경우 연구 등록에서 제외되었습니다.

모든 임플란트는 치아 발치 후 최소 3개월 후에 식립되었습니다. 임플란트의 크기는 4.8X 10mm(Zimmer, USA)였다. 대상자는 컴퓨터 무작위화를 기반으로 두 그룹으로 정렬되었다. 그룹 1(중재)에서는 임플란트 식립 후 LLL 및 LED를, 그룹 2(대조군)에서는 동일한 장치를 사용했다. 장치가 꺼져 있는 동안 사용되었습니다.

810nm 레이저와 632nm LED의 조합으로 개입군 조사를 위해 휴대용 장치가 적용되었습니다.

그룹 1의 대상자는 10일 동안 매일 20분씩 LLL 15 mw/cm2 및 LED 10 mw/cm2를 조사하였다.

근원심 및 협설측 방향을 측정하고 평균 임플란트 안정성 지수(ISQ)를 결정했습니다. RFA 측정은 임플란트 식립 후 식립 직후(time0) 10일(time1), 3주(time2), 6주(time3), 9(time 4)주에 시행하였다.

연구 유형

중재적

등록 (실제)

28

단계

  • 해당 없음

참여기준

연구원은 적격성 기준이라는 특정 설명에 맞는 사람을 찾습니다. 이러한 기준의 몇 가지 예는 개인의 일반적인 건강 상태 또는 이전 치료입니다.

자격 기준

공부할 수 있는 나이

18년 이상 (성인, OLDER_ADULT)

건강한 자원 봉사자를 받아들입니다

연구 대상 성별

모두

설명

포함 기준:

  • 연구에 포함될 자격이 있는 피험자는 하악 제1대구치에 무치악 부위가 있었고 치과 임플란트가 필요했습니다.

제외 기준:

  • . 뼈에 영향을 미치는 질병, 흡연, 뼈 확대가 필요한 무치악 부위의 뼈 부족, 후속 조치를 위해 돌아오지 않거나 연구 등록을 거부한 경우 연구 등록에서 제외되었습니다.

공부 계획

이 섹션에서는 연구 설계 방법과 연구가 측정하는 내용을 포함하여 연구 계획에 대한 세부 정보를 제공합니다.

연구는 어떻게 설계됩니까?

디자인 세부사항

  • 주 목적: 다른
  • 할당: 무작위
  • 중재 모델: 평행한
  • 마스킹: 없음

무기와 개입

참가자 그룹 / 팔
개입 / 치료
ACTIVE_COMPARATOR: 레이저 방출 그룹
피험자는 임플란트 식립 후 저수준 레이저 및 발광 다이오드를 받았습니다.
안정성 향상을 위해 임플란트 식립 후 Low-Level Laser와 Light-Emitting Diodes 조합 사용
하악 구치부에 4.8X 10mm(Zimmer, USA) 크기의 치과용 임플란트를 식립하였다.
플라시보_COMPARATOR: 비 방출 그룹
레이저 조사군에서는 임플란트 식립 후 저수준 레이저와 발광다이오드 시술을 받았고, 비발광군에서는 장치가 꺼진 상태에서 동일한 장치를 사용하였다.
안정성 향상을 위해 임플란트 식립 후 Low-Level Laser와 Light-Emitting Diodes 조합 사용
하악 구치부에 4.8X 10mm(Zimmer, USA) 크기의 치과용 임플란트를 식립하였다.

연구는 무엇을 측정합니까?

주요 결과 측정

결과 측정
측정값 설명
기간
공진 주파수 분석
기간: 임플란트 식립 후 Immidate(시간 0)
임플란트의 안정성은 Osstell 장치에 의한 공진 주파수 분석으로 평가되었습니다.
임플란트 식립 후 Immidate(시간 0)
공진 주파수 분석
기간: 임플란트 식립 후 10일(time1)
임플란트의 안정성은 Osstell 장치에 의한 공진 주파수 분석으로 평가되었습니다.
임플란트 식립 후 10일(time1)
공진 주파수 분석
기간: 임플란트 식립 후 3주(2차)
임플란트의 안정성은 Osstell 장치에 의한 공진 주파수 분석으로 평가되었습니다.
임플란트 식립 후 3주(2차)
공진 주파수 분석
기간: 임플란트 식립 후 6주(시간 3)
임플란트의 안정성은 Osstell 장치에 의한 공진 주파수 분석으로 평가되었습니다.
임플란트 식립 후 6주(시간 3)
공진 주파수 분석
기간: 임플란트 식립 9주 후(4차)
임플란트의 안정성은 Osstell 장치에 의한 공진 주파수 분석으로 평가되었습니다.
임플란트 식립 9주 후(4차)

공동 작업자 및 조사자

여기에서 이 연구와 관련된 사람과 조직을 찾을 수 있습니다.

연구 기록 날짜

이 날짜는 ClinicalTrials.gov에 대한 연구 기록 및 요약 결과 제출의 진행 상황을 추적합니다. 연구 기록 및 보고된 결과는 공개 웹사이트에 게시되기 전에 특정 품질 관리 기준을 충족하는지 확인하기 위해 국립 의학 도서관(NLM)에서 검토합니다.

연구 주요 날짜

연구 시작 (실제)

2014년 1월 1일

기본 완료 (실제)

2015년 1월 1일

연구 완료 (실제)

2015년 9월 30일

연구 등록 날짜

최초 제출

2017년 11월 28일

QC 기준을 충족하는 최초 제출

2017년 12월 3일

처음 게시됨 (실제)

2017년 12월 5일

연구 기록 업데이트

마지막 업데이트 게시됨 (실제)

2017년 12월 5일

QC 기준을 충족하는 마지막 업데이트 제출

2017년 12월 3일

마지막으로 확인됨

2017년 12월 1일

추가 정보

이 연구와 관련된 용어

기타 연구 ID 번호

  • Fr1396

개별 참가자 데이터(IPD) 계획

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미정

약물 및 장치 정보, 연구 문서

미국 FDA 규제 의약품 연구

아니

미국 FDA 규제 기기 제품 연구

아니

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