尋常性座瘡の被験者におけるBMX-010の局所適用の評価。

包含基準:

1. 18 歳以上の男性または女性。
2. 軽度から重度の顔面尋常性座瘡の臨床診断;被験者は、体の他の部位ににきびがある場合もあります。
3. -スクリーニングおよびベースラインIGAスコア> 2（2以上）;
4. -治験薬以外の炎症性皮膚疾患に対する局所または全身治療の使用を控える意思がある;
5. にきびの局所治療の候補;
6. 研究中にクレンザー、モイスチャライザー、または日焼け止めが必要な場合、被験者は許可されたクレンザー、モイスチャライザー、サンスクリーン、またはモイスチャライザーとサンスクリーンの組み合わせ製品のみを喜んで使用する必要があります。 被験者がメイクをしている場合は、ノンコメドジェニック メイクを使用することに同意する必要があります。
7. 出産の可能性のある女性は、最初の薬物投与前の48時間以内に尿妊娠検査で陰性でなければなりません。
8. 出産の可能性のある女性は、治験責任医師が適切と判断した 2 つの避妊方法（たとえば、経口避妊薬とバリア法）を治験を通じて使用する意思があり、その後 1 か月間は資格があり、参加を継続する必要があります。研究;
9. 割り当てられた領域にのみ研究製品を適用することへの書面による同意を含む、プロトコルに従って研究を完了する能力;と
10. -書面によるインフォームドコンセントを理解し、提供する能力。

除外基準:

1. -顔の基礎疾患またはその他の皮膚科学的状態で、干渉する局所または全身療法の使用が必要な場合、または評価と病変数が決定的でない;
2. アンドロゲン受容体遮断薬（スピロノラクトンやフルタミドなど）の使用;
3. 重度の嚢胞性ざ瘡、複合座瘡、電撃性座瘡、または二次性座瘡;
4. 過去 1 週間に、光線療法装置、エネルギーベースの装置、粘着性クレンジング ストリップ、または美容処置 (フェイシャル、ピーリング、コメド除去など) を使用した。
5. 研究治療または研究評価を妨げるであろうスクリーニング時のあごひげまたは過度の顔の毛の存在、および研究期間中の除去の拒否;
6. -研究における評価を妨げる以前または現在の併用療法;
7. -治験責任医師が制御されていないとみなす基礎疾患を持ち、研究に参加している間、被験者の安全に懸念をもたらす被験者;
8. 抗炎症薬、サリチル酸の使用;コルチコステロイド、抗生物質、抗菌剤（過酸化ベンゾイル含有製品（ベンザマイシンなど）を含む）、レチノイド;過去 2 週間のその他の局所ニキビ治療（光線力学療法、過酸化ベンゾイル、サリチル酸、硫黄、またはスルファセタミド ナトリウムを含むものなどの薬用石鹸など）;
9. -ベースライン前の6か月以内の経口レチノイド（イソトレチノインなど）の使用、またはベースラインから6か月以内の1日あたり10,000単位を超えるビタミンAサプリメント;
10. -臨床評価を混乱させるか、被験者のリスクを高める可能性のある付随する皮膚疾患;
11. -研究全体での薬用化粧品（アンチエイジング化粧品を含む）の使用;
12. 1) 全身ステロイド、2) 顔への局所レチノイド、3) ニキビに影響を与えることが知られている抗生物質、4) 免疫抑制剤、または免疫調節剤の研究中に使用します。
13. 1) 局所ステロイド、2) 局所抗炎症剤、3) 局所抗真菌薬、4) 局所ニキビ治療または 4) 局所抗生物質の顔面使用;
14. 顔への薬用クレンザーの使用（研究中）;
15. -ベースラインの2日前および研究全体を通して、局所収斂剤または研磨剤、医療局所製剤（処方およびOTC製品）の使用;
16. 抗菌療法を必要とする全身感染症または皮膚感染症;
17. -ベースライン来院から4週間以内の全身化学療法または放射線療法;
18. 何らかの原因による免疫不全、既知のヒト免疫不全ウイルス感染、または後天性免疫不全症候群;
19. 研究者が判断した妊娠、計画妊娠、授乳、または不十分な避妊;
20. 積極的な薬物またはアルコール依存;
21. 治験責任医師の判断で、被験者の安全性を損なう可能性がある重大な急性または慢性の医学的、神経学的、または精神医学的疾患、研究を完了するための被験者の能力を制限する、および/または研究の目的を損なう;
22. -このプロトコルで治療されている適応症に対する以前の臨床試験への参加。