Crestal Sinus Elevation을 위한 Dental Implant Approach; 새로운 기술.

상악 구치부 발치 후 수직 골 높이 감소는 불가피하며 치료 계획을 복잡하게 합니다. 임플란트 및 다른 이식 절차를 사용하는 Crestal sinus 거상은 제안된 치료 프로토콜 중 일부로 간주됩니다. 임플란트 치과학의 도입과 상악 구치부에서의 임플란트 식립은 딜레마였습니다. 뼈 유형의 선택, 해부학적 특징 및 남은 뼈 높이 감소는 모두 이 영역에 임플란트를 식립할 때 직면하는 장애물입니다. 수직 골 높이 감소는 상악동 기압에 의해 상악 대구치와 소구치를 발치한 후에 발생합니다. 이 현상을 극복하기 위해 많은 프로토콜이 제안되었습니다. 짧은 임플란트 식립, 제2 소구치 교합, 마지막으로 상악동 거상.

최근의 체계적 검토에서는 접목 재료를 사용하거나 사용하지 않고 절골술 매개 부비동저 거상을 평가했습니다. 두 시술 모두 장기 생존율이 높다는 결론을 내렸지만, 12명의 참가자만을 대상으로 한 분석에는 단 한 건의 비교 연구만 사용되었습니다. 또 다른 체계적 검토에서는 4-8mm 릿지 높이에서 측면 대 정동 접근 방식으로 식립된 임플란트의 생존율을 평가했습니다. 덜 침습적인 파정동 접근법이 1단계 측방 접근법을 대체할 수 있다고 결론지었지만, 40명의 환자를 포함하고 5년 동안 추적 조사된 무작위 대조 시험은 1건뿐이었습니다. 이것은 이러한 접근법에 관한 높은 수준의 증거와 문헌의 지식 격차를 강조합니다.

본 연구의 목적은 상악 구치부에서 골 이식술을 사용하지 않고 상악동 거상술을 이용한 임플란트 식립 후 골고도의 방사선학적 수직 이득과 임플란트 안정성을 평가하는 것이다.