완전 무치악 환자에서 이중 스캔 프로토콜과 삼중 스캔 프로토콜을 사용한 Guided Implant 식립의 정확도

본 연구에서는 완전 무치악 환자에서 플래닝 프로토콜 C1(이중 스캔 기법) 또는 C2(삼중 스캔 기법)를 사용하여 실제 임플란트 위치의 선형 및 각도 편차에 대해 논의합니다.

프로토콜 C1(double scan technique)과 C2(triple scan technique) 모두 완전 무치악 환자를 대상으로 하며 스캔 장치를 착용한 환자의 경우 C.T 스캔이 필요합니다.

C1(double scan technique)에서 환자가 스캔기기를 착용한 경우 CT 스캔 후, 스캔기기가 있는 모델과 없는 모델에 대해 두 번의 광학 스캔을 한다.

C2(트리플스캔기법)에서는 스캔기기를 착용한 환자의 경우 CT스캔 후, 스캔기기 단독의 경우 CT스캔을 시행한다.

두 프로토콜의 치아 위치는 방사선 불투과성 스캔 장치로 식별되었습니다.

스캐닝 프로토콜 C1(double scan technique)에 따라 완전 무치악 환자에서 가상 임플란트의 각도 및 선형 편차와 실제 임플란트 위치를 평가하기 위해 이중 스캔 프로토콜 대 삼중 스캔 프로토콜(2개 그룹 - 각 그룹에 8개의 임플란트)을 사용하는 수술 가이드에 의한 16개의 임플란트 식립 ) 및 C2(트리플 스캔 기술) .