Impianti BioComp in Anaplastologia - Studio pilota
Applicazione sicura e facile degli impianti BioComp per la ricostruzione protesica dei difetti craniofacciali
Presso il dipartimento di Chirurgia Cranio-Maxillofacciale, Maastricht University Medical Center (MUMC) la procedura di routine dopo l'ablazione del naso, dell'orecchio o dell'occhio è la ricostruzione con un'epistesi. La ritenzione può essere ottenuta utilizzando adesivi, sottosquadri o impianti ossei. L'epistesi basata su impianto è ora comunemente utilizzata a causa della buona ritenzione e stabilità dell'epistesi. Ciò si traduce in una migliore qualità della vita del paziente.
Oggi utilizziamo impianti con superficie lavorata nella regione craniofacciale di diverse marche. Ogni sistema ha i propri strumenti e modalità di applicazione. Per migliorare l'usabilità clinica, stiamo cercando un sistema per tutte le regioni implantari extraorali.
Inoltre, i pazienti implantari possono essere compromessi da invecchiamento, malattie, fumo, farmaci e radioterapia, che possono influenzare il processo di guarigione ossea. In questi casi, è noto che gli impianti hanno tassi di fallimento più elevati rispetto all'applicazione in casi sani. Pertanto gli impianti con modificazioni biomeccaniche della superficie, come gli impianti HAVD di BioComp, possono avere un effetto positivo sull'osteointegrazione, determinando tassi di successo più elevati nel paziente compromesso.
Lo scopo di questo studio pilota è quello di raccogliere informazioni sulla funzionalità e la sicurezza di un sistema implantare trattato in superficie (HAVD, BioComp) per la ricostruzione epistetica dopo chirurgia ablativa nella regione nasale, orbitale e auricolare per un potenziale RCT futuro.
Panoramica dello studio
Stato
Stato
Condizioni
Condizioni
Intervento / Trattamento
Intervento / Trattamento
Tipo di studio
Tipo di studio
Iscrizione (Anticipato)
Iscrizione
Fase
Fase
- Non applicabile
Contatti e Sedi
Contatto studio
Contatto studio
- Nome: Veronique CM Timmer, Msc
- Numero di telefono: +31433872010
- Email: v.timmer@mumc.nl
Backup dei contatti dello studio
- Nome: Lucas J Poort, Drs
- Numero di telefono: +31433872010
- Email: l.poort@mumc.nl
Luoghi di studio
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Limburg
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Maastricht, Limburg, Olanda, 6229HX
- Reclutamento
- MaastrichtUMC
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Contatto:
- Peter Kessler, MD PhD
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Criteri di partecipazione
Criteri di ammissibilità
Criteri di ammissibilità
Età idonea allo studio
Accetta volontari sani
Sessi ammissibili allo studio
Descrizione
Criterio di inclusione:
- Necessita di un'epistesi auricolare, nasale o orbitale
- Essere in grado di mantenere una buona igiene personale
Criteri di esclusione:
- Controindicazioni per l'anestesia generale
- DEmenza o altri disturbi psichiatrici/incapacità di mantenere una buona igiene personale
- Scarsa igiene personale
- Gravidanza
- Infezione acuta
- Immunosoppressione
- Compromesso dai farmaci
- Irraggiamento locale >50Gray
Piano di studio
Come è strutturato lo studio?
Dettagli di progettazione
- Scopo principale: Trattamento
- Assegnazione: N / A
- Modello interventistico: Assegnazione di gruppo singolo
- Mascheramento: Nessuno (etichetta aperta)
Numero di armi
Armi e interventi
Gruppo di partecipanti / ArmGruppo di partecipanti / Arm |
Intervento / TrattamentoIntervento / Trattamento |
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Sperimentale: Impianto HAVD
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Impianto mordenzato con acido, rivestito di idrossi-apatite per uso extraorale per la ricostruzione di difetti craniofacciali con epistesi
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Cosa sta misurando lo studio?
Misure di risultato primarie
Misure di risultato primarie
Misura del risultato |
Lasso di tempo |
|---|---|
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Variazioni della stabilità dell'impianto misurate dal misuratore di stabilità dell'impianto Osstell a un anno
Lasso di tempo: un anno
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un anno
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Misure di risultato secondarie
Misure di risultato secondarie
Misura del risultato |
Misura Descrizione |
Lasso di tempo |
|---|---|---|
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arrossamento/irritazione della pelle
Lasso di tempo: linea di base
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linea di base
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arrossamento/irritazione della pelle
Lasso di tempo: 12 settimane dopo il posizionamento dell'impianto
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12 settimane dopo il posizionamento dell'impianto
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arrossamento/irritazione della pelle
Lasso di tempo: 26 settimane dopo il posizionamento dell'impianto
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26 settimane dopo il posizionamento dell'impianto
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arrossamento/irritazione della pelle
Lasso di tempo: 52 settimane dopo il posizionamento dell'impianto
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52 settimane dopo il posizionamento dell'impianto
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Sopravvivenza dell'impianto
Lasso di tempo: 52 settimane dopo il posizionamento dell'impianto
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52 settimane dopo il posizionamento dell'impianto
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Facilità d'uso clinica
Lasso di tempo: Subito dopo il posizionamento dell'impianto (0)
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Opinione del chirurgo sulla facilità d'uso del sistema implantare, valutata da un questionario.
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Subito dopo il posizionamento dell'impianto (0)
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Soddisfazione del paziente misurata da un sistema di punteggio VAS
Lasso di tempo: 26 settimane dopo il posizionamento dell'impianto
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Soddisfazione del paziente valutata da un questionario autocostruito
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26 settimane dopo il posizionamento dell'impianto
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Soddisfazione del paziente misurata da un sistema di punteggio VAS
Lasso di tempo: 52 settimane dopo il posizionamento dell'impianto
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Soddisfazione del paziente valutata da un questionario autocostruito
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52 settimane dopo il posizionamento dell'impianto
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Qualità della vita misurata da un sistema di punteggio VAS
Lasso di tempo: 52 settimane dopo il posizionamento dell'impianto
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Qualità della vita valutata da un questionario autoprodotto
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52 settimane dopo il posizionamento dell'impianto
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Collaboratori e investigatori
Sponsor
Sponsor
Investigatori
Investigatori
- Investigatore principale: Peter AW Kessler, Prof. Dr., Maastricht University Medical Center
Studiare le date dei record
Studia le date principali
Inizio studio (Effettivo)
Inizio studio
Completamento primario (Anticipato)
Completamento primario
Completamento dello studio (Anticipato)
Completamento dello studio
Date di iscrizione allo studio
Primo inviato
Primo inviato
Primo inviato che soddisfa i criteri di controllo qualità
Primo inviato che soddisfa i criteri di controllo qualità
Primo Inserito (Stima)
Primo Inserito
Aggiornamenti dei record di studio
Ultimo aggiornamento pubblicato (Effettivo)
Ultimo aggiornamento pubblicato
Ultimo aggiornamento inviato che soddisfa i criteri QC
Ultimo aggiornamento inviato che soddisfa i criteri QC
Ultimo verificato
Ultimo verificato
Maggiori informazioni
Termini relativi a questo studio
Altri numeri di identificazione dello studio
Altri numeri di identificazione dello studio
- METC142065
Informazioni su farmaci e dispositivi, documenti di studio
Studia un prodotto farmaceutico regolamentato dalla FDA degli Stati Uniti
Studia un dispositivo regolamentato dalla FDA degli Stati Uniti
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Prove cliniche su Protesi e impianti
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NCT06848036Attivo, non reclutanteSmart Services Care Services di Community and Home Based
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NCT03035513Sconosciuto
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NCT04625101CompletatoEncefalopatia epilettica | Picco e onda continui durante il sonno
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NCT05301894TerminatoEncefalopatia epilettica | Picco e onda continui durante il sonno
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NCT07009431CompletatoStudio di focus group di Associati infermieristici del Registrante Nursing and Midwifery Consiglio.
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NCT02137330CompletatoGrave obesità pediatrica (BMI > 97° pc -Secondo i Centers for Disease Control and Prevention BMI Charts-) | Test di funzionalità epatica alterati | Intolleranza glicemica
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NCT07546461Non ancora reclutamentoSistemi di Abitazione Extraterrestre | Abitazione sulla Superficie Lunare | Valutazione delle Risorse di Ghiaccio Acquoso Lunare | Utilizzo delle Risorse In-Situ (ISRU) | Architettura di Transito del Lunar Gateway | Pronti per l'Abitazione della Superficie Marziana | Sistemi di Controllo Ambientale e Supporto Vitale (ECLSS) | Modellazione dell'Esposizione alle Radiazioni | EVA Logistics and Mobility | Isolamento a Lunga Durata e Stabilità Comportamentale
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NCT03865771ReclutamentoEpilessia benigna con picchi centrotemporali (BECTS) | Epilessia parziale benigna atipica (ABPE) | Encefalopatia epilettica con punte e onde continue durante il sonno (ECSWS)
Prove cliniche su Impianto HAVD
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NCT05949645Attivo, non reclutante
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NCT05854550Completato
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NCT02170558RitiratoMalattia degenerativa del disco
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NCT06865209Attivo, non reclutanteSiti edentuli singoli posteriori
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NCT03494244SconosciutoCancro al seno | Chirurgia | Articolo chirurgico, trattenuto
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NCT06329362ReclutamentoPerdita ossea alveolare
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NCT07162389Attivo, non reclutanteAtrofia ossea alveolare
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NCT05023733ReclutamentoMalattia degenerativa del disco | Stenosi spinale lombare | Spondilolistesi lombare | Stenosi foraminale
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NCT01910298TerminatoMastectomia e ricostruzione mammaria