Studio sull'overdenture implantare
Uno studio prospettico randomizzato sul carico immediato di overdenture mandibolari supportate da impianti dentali in titanio a lati paralleli o rastremati
Panoramica dello studio
Stato
Stato
Condizioni
Condizioni
Intervento / Trattamento
Intervento / Trattamento
Descrizione dettagliata
Tipo di studio
Tipo di studio
Iscrizione (Effettivo)
Iscrizione
Fase
Fase
- Non applicabile
Contatti e Sedi
Luoghi di studio
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Washington
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Seattle, Washington, Stati Uniti, 98025
- the Regional Research Clinic, School of Dentistry at the University of Washington
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Criteri di partecipazione
Criteri di ammissibilità
Criteri di ammissibilità
Età idonea allo studio
Accetta volontari sani
Descrizione
Criterio di inclusione:
- Avere un'età compresa tra i 20 e i 75 anni
- Essere edentuli e avere protesi complete sia superiori che inferiori
- Presente con ASA I o ASA II e nessuna controindicazione medica al trattamento implantare
- Avere un volume osseo adeguato per il posizionamento di un (1) impianto dentale in titanio di 4,0 mm di diametro con una lunghezza minima di 10 mm nell'area sinfisaria (= linea mediana) della mandibola anteriore
- Mostra l'assenza di patologie come cisti, infezioni nel tessuto gengivale o osseo e radici rimanenti.
- Essere in grado di comprendere le procedure e avere un intervallo di apertura della mascella di 30 mm o più
Criteri di esclusione:
- Chemioterapia in corso
- Precedenti radiazioni alla testa/collo
- Farmaci corticosteroidi in corso
- Farmaci anticoagulanti in corso
- Terapie in corso con psicofarmaci
- Storia di abuso di alcool/droga
- Denti/punte delle radici rimanenti
- Protesi di scarsa qualità / fratturate / gravemente usurate che non possono essere modificate per adattarsi all'impianto
- Gamma di apertura della ganascia inferiore a 30 mm
Piano di studio
Come è strutturato lo studio?
Dettagli di progettazione
- Scopo principale: Trattamento
- Assegnazione: Randomizzato
- Modello interventistico: Assegnazione parallela
- Mascheramento: Nessuno (etichetta aperta)
Numero di armi
Armi e interventi
Gruppo di partecipanti / ArmGruppo di partecipanti / Arm |
Intervento / TrattamentoIntervento / Trattamento |
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Comparatore attivo: Gruppo implantare a lati paralleli
Un impianto dentale in titanio a lati paralleli verrà posizionato nella mandibola edentula.
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Comparatore attivo: Gruppo implantare a forma conica
Nella mandibola edentula verrà inserito un impianto dentale in titanio di forma conica.
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Cosa sta misurando lo studio?
Misure di risultato primarie
Misure di risultato primarie
Misura del risultato |
Misura Descrizione |
Lasso di tempo |
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Differenza nel tasso di fallimento dell'impianto tra impianti dentali a lati paralleli e conici a 5 anni
Lasso di tempo: Dal posizionamento dell'impianto (basale) a 5 anni
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Fallimento dell'impianto definito come un impianto che ha perso l'osteointegrazione e non è più stabile e supportato dall'osso circostante (nessun contatto osso-impianto).
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Dal posizionamento dell'impianto (basale) a 5 anni
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Misure di risultato secondarie
Misure di risultato secondarie
Misura del risultato |
Misura Descrizione |
Lasso di tempo |
|---|---|---|
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Quoziente di stabilità dell'impianto (ISQ) misurato a 5 anni
Lasso di tempo: 5 anni
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Il valore del quoziente di stabilità dell'impianto (ISQ) è una misura della stabilità meccanica dell'impianto nell'osso e viene misurato direttamente dopo il posizionamento dell'impianto chirurgico e quindi ai controlli.
Si ottiene mediante frequenza di risonanza con un dispositivo che invia un segnale ad un'asta metallica posta nell'impianto e poi legge il valore del segnale quando rimbalza.
Il valore varia da 0 a 100 con valori più alti che indicano un migliore contatto osso-impianto e una maggiore stabilità.
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5 anni
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Misurazione della perdita ossea a 5 anni
Lasso di tempo: Dal posizionamento dell'impianto (basale) a 5 anni
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La misura della perdita ossea in millimetri (mm) attorno all'impianto a 5 anni rispetto all'altezza ossea al basale.
Le variazioni del livello osseo vengono misurate sulle radiografie intraorali e confrontate con la misurazione del livello osseo immediatamente dopo il posizionamento dell'impianto chirurgico (basale).
La piattaforma dell'impianto è stata utilizzata come punto di riferimento e le misurazioni dell'osso sono state effettuate fino alla filettatura più vicina.
Il livello osseo viene misurato su entrambi i lati (mesiale e distale) dell'impianto utilizzando la filettatura sull'impianto come riferimento.
La distanza tra i fili è di 0,6 mm.
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Dal posizionamento dell'impianto (basale) a 5 anni
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Collaboratori e investigatori
Sponsor
Sponsor
Investigatori
Investigatori
- Investigatore principale: Mats Kronstrom, DDS, PhD, University of Washington
Pubblicazioni e link utili
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Completamento primario
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- STUDY00003063
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