レミフェンタニル誘発術後痛覚過敏に対する超低用量ナロキソンの効果 - 無作為対照研究

デスフルランとレミフェンタニルによる全身麻酔下で甲状腺摘出術を受ける成人患者を登録しました。 レミフェンタニルは目標制御注入によって投与され、麻酔深度は BIS を 40 から 60 の間に維持して維持されました。 患者は、レミフェンタニルとナロキソンの術中用量に応じて 3 つのグループのいずれかに無作為に割り付けられました: レミフェンタニルの効果部位濃度 1 ng/ml (対照グループ)、4 ng/ml (レミフェンタニル グループ)、および注入速度と組み合わせた 4 ng/ml 0.8 ng/kg/分のナロキソン (レミフェンタニルおよびナロキソン群)。 術後の機械的疼痛閾値、疼痛強度、および鎮痛薬の消費量を、術後 48 時間で調べました。 主要な結果は、手術の 24 時間後に切開周囲領域で測定された機械的疼痛閾値でした。