능선 보존을 위한 골막 억제 기술 전향적 연구 (PI)

소켓 보존 절차는 발치와의 융기 치수 손실을 크게 줄이는 것으로 나타났습니다. 이러한 절차에는 뼈 이식 재료로 빈 소켓을 채우는 작업이 포함되며, 이는 수평 및 수직 능선 변경을 제한하는 발판 역할을 합니다. 이식재를 포함하기 위해서는 자가 연조직 이식편, 흡수성 또는 비흡수성 막과 같은 폐색 장벽이 종종 필요합니다. 아직까지 어떤 소켓 보존 기술도 다른 소켓보다 우수하다고 입증되지 않았으며 능선 형태를 보존하는 데 완전히 효과적인 것으로 입증된 기술도 없습니다. 능선 너비에서 1.5mm, 능선 높이에서 0.5mm의 순 감소는 소켓 보존 절차 후에 종종 관찰되며, 이는 능선 치수를 완전히 복원하기 위해 추가적인 경조직 또는 연조직 확대가 필요할 수 있습니다.

2005년 동물 조직학 연구에서 Araujo와 Lindhe는 외상과 치주 인대의 손실이 골다발의 손실과 피질골판의 모델링을 유발하는 파골세포 활동을 유발함을 입증했습니다. 파골 세포는 골 재흡수를 담당하는 다핵 세포로 골막 아래 뼈의 외층에서 발견됩니다. 파골 세포는 만능 조혈 줄기 세포에서 유래하는 것으로 생각됩니다. 자극을 받으면 가장 작은 직경이 9.5미크론인 이 단핵 전구체는 증식하여 뼈 표면에 부착하여 재흡수된 다음 융합하여 크고 성숙한 다핵 파골 세포를 형성합니다.

고밀도 폴리테트라플루오로에틸렌(d-ptfe) 멤브레인은 소켓 보존 절차에서 뼈 이식 재료를 포함하는 폐색 장벽으로 사용되었습니다. 안정적인 폴리머이자 생체 적합성이 높은 폴리테트라플루오로에틸렌은 멤브레인 다공성이 0.3미크론 미만입니다. 박테리아에 영향을 받지 않으므로 막을 의도적으로 노출시키는 소켓 보존 기술에 권장됩니다.

본 연구에서는 고밀도 폴리테트라플루오로에틸렌(d-ptfe) 막을 골막과 발치와 협측골판 사이에 위치시켜 뼈 형성이 완료되는 데 필요한 시간인 4개월 동안 유지한다. 소켓 내. 비흡수성 d-ptfe 멤브레인의 목표는 전구체 세포가 뼈 표면으로 이동하여 융합되어 파골 세포를 형성하는 것을 방지하는 것입니다. 저자는 비흡수성 d-ptfe 멤브레인의 작은 직경의 기공에 의해 골막에서 뼈 표면으로의 전구체 세포의 통과가 억제된다는 가설을 세웠습니다. 전구체 세포가 파골 세포를 형성할 수 없기 때문에 소켓의 외부 표면에서 골 용해 활동이 방지됩니다. 저자는 이 소켓 보존 절차에 대해 "골막 억제 기술"이라는 용어를 사용합니다. 이 연구는 골막 억제 기술을 사용하여 치료된 발치와와 소켓 보존 절차 없이 치유가 허용된 발치 사이의 치수 변화를 비교할 것입니다.